[实用新型]一种集群磁流变研磨抛光装置

权利要求书

1.一种集群磁流变研磨抛光装置，其特征在于，包括：

抛光盘(1)，所述抛光盘(1)的底面设有至少一个凹槽，所述凹槽内设有用于设置工件(01)的抛光吸附垫(6)，所述抛光吸附垫(6)设有至少一个用于容纳工件(01)的工件承置槽；所述抛光盘(1)的侧壁与所述底面形成用于盛放磁流变抛光液(91)的腔体，以使所述磁流变抛光液(91)完全浸过工件(01)表面；所述磁流变抛光液(91)的磨料包括纳米磨料粒子、结合剂和微米磁性颗粒，所述纳米磨料粒子在所述结合剂的作用下包裹在所述微米磁性颗粒的外表面；

设于所述抛光盘(1)的下方、用于为所述磁流变抛光液(91)提供磁场的至少一个磁铁组件(2)，每个所述磁铁组件(2)均包括至少两个按预设规律排布的磁铁(21)，以使所述磁流变抛光液(91)形成的柔性抛光垫完全覆盖工件(01)的表面；

与所述磁铁组件(2)相连、用于驱动所述磁铁组件(2)自转及公转的磁极驱动装置；

用于设置所述抛光盘(1)、所述磁铁组件(2)和所述磁极驱动装置的支撑装置，所述抛光盘(1)高度可调的设于所述支撑装置上，以通过调整所述抛光盘(1)的高度来改变所述抛光盘(1)与所述磁铁组件(2)之间的间隙，以调整抛光压力。

2.根据权利要求1所述的集群磁流变研磨抛光装置，其特征在于，所述磁极驱动装置包括：

用于输出旋转运动的旋转驱动装置；

与所述旋转驱动装置的输出主轴(31)相连的主动外齿轮(32)；

与所述主动外齿轮(32)同轴设置的内齿轮(33)；

分别与所述主动外齿轮(32)和所述内齿轮(33)啮合传动的行星齿轮(34)，所述行星齿轮(34)的数量与所述磁铁组件(2)的数量相同，所述磁铁组件(2)与所述行星齿轮(34)一一对应相连。

3.根据权利要求2所述的集群磁流变研磨抛光装置，其特征在于，每个所述磁铁组件(2)均还包括磁铁保持架(22)，所述磁铁保持架(22)设有：

至少两个用于设置所述磁铁(21)的磁铁偏心套(221)；

与所述磁铁偏心套(221)相连的连接轴(222)，所述连接轴(222)通过偏心套筒(4)与所述行星齿轮(34)的轴孔套接。

4.根据权利要求3所述的集群磁流变研磨抛光装置，其特征在于，所述行星齿轮(34)的一端设有第一端盖(341)，所述连接轴(222)与所述第一端盖(341)的对应位置设有至少一对定位槽，所述连接轴(222)与所述第一端盖(341)通过与所述定位槽配合的定位销(5)固定相连。

5.根据权利要求2所述的集群磁流变研磨抛光装置，其特征在于，所述旋转驱动装置包括：

用于提供旋转动力的驱动电机(35)；

与所述驱动电机(35)的动力轴相连的主动带轮(36)；

与所述主动带轮(36)通过传动带(38)传动的从动带轮(37)；所述输出主轴(31)包括与所述从动带轮(37)固定连接的传动轴和与所述主动外齿轮(32)固定连接的偏心轴，所述偏心轴与所述传动轴偏心设置，且所述偏心轴与所述传动轴通过过渡轴相连。

6.根据权利要求1-5任一项所述的集群磁流变研磨抛光装置，其特征在于，所述抛光吸附垫(6)包括自下而上依次设置的电工纯铁薄层(61)、PET膜层(62)、多孔膜层(63)和表面保护膜层(64)，所述电工纯铁薄层(61)与所述PET膜层(62)之间以及所述PET膜层(62)与所述多孔膜层(63)之间均通过双面胶(65)粘接。

7.根据权利要求6所述的集群磁流变研磨抛光装置，其特征在于，所述抛光盘(1)与所述支撑装置通过调节旋钮(8)相连，以通过所述调节旋钮(8)的正反向转动，使所述抛光盘(1)靠近或远离所述磁铁组件(2)。

8.根据权利要求6所述的集群磁流变研磨抛光装置，其特征在于，所述侧壁的顶部设有用于防止所述磁流变抛光液(91)在加工过程中飞溅的挡板(11)。