[实用新型]一种薄膜光谱反应池

说明书

本实用新型公开了光谱分析技术领域的一种薄膜光谱反应池。所述薄膜光谱反应池包括反应池密封盖和反应池主体，反应池主体是由第一挡板、第二挡板、第三挡板、第四挡板、薄膜材料固定板围成的立方体，第二挡板为反应池主体的底板，第一挡板、第三挡板、第四挡板与薄膜材料固定板为反应池主体的四壁，薄膜材料固定板高度超出反应池主体高度，用于配合光谱仪安装固定，薄膜材料固定板上有卡槽位，卡槽位内固定薄膜材料。本实用新型在薄膜材料与气体或液体进行化学反应的同时对薄膜材料的荧光光谱、紫外可见光谱等光学性质进行实时连续监测，本实用新型操作简单、安全，在薄膜荧光传感器、薄膜光敏太阳能电池等方面具有较大商业价值。

技术领域

本实用新型属于光谱分析技术领域，尤其涉及一种薄膜光谱反应池。

背景技术

从荧光传感器到新型光敏太阳能电池的研发和制备，荧光材料的制备和应用越来越广泛，荧光发光光谱、紫外可见光谱等光谱学分析研究手段在材料和器件研究中逐渐占据越来越重要的位置。但是目前谱学测试工具以主要是传统比色皿，没有针对薄膜材料的测试装置，因而更不能针对薄膜材料的气相或液相反应进行连续测试，这远远不能够满足应用和研发需求，尤其是在薄膜材料光谱学、薄膜材料光谱反应动力学等新兴领域。为了填补领域空白，现在迫切需要发明创造一种反应装置来满足这方面的研发和应用需求。

实用新型内容

本实用新型的目的是提供一种薄膜材料光谱反应池，其特征在于，所述反应池结构包括：反应池密封盖和光谱反应池主体，所述反应池密封盖包括上、下连接的容器密封层和容器固定层，所述反应池密封盖外侧周向尺寸等于溶剂反应池主体外侧周向尺寸，容器固定层盖入所述反应池主体内，容器固定层侧面与反应池主体内壁相贴合，使反应池主体达到密封效果。

所述反应池主体是由第一挡板、第二挡板、第三挡板、第四挡板、薄膜材料固定板围成的立方体，其中，第二挡板为反应池主体的底板，第一挡板、第三挡板、第四挡板与薄膜材料固定板为反应池主体的四壁，薄膜材料固定板内壁上设置卡槽位。

所述卡槽位由竖直相向固定的两根固定框构成。

所述卡槽位尺寸配合薄膜材料基底尺寸。

所述反应池主体、第一挡板、第三挡板、第四挡板的高度均相等。

所述反应池主体高度为30～50mm，长度为20mm或30mm或50mm，宽度为20～30mm。

所述薄膜材料固定板上端超出反应池主体高度4mm，下端超出反应池主体高度2mm。

所述第一挡板、第二挡板、第三挡板、第四挡板、薄膜材料固定板厚度均为1.5mm。

所述容器密封层厚度为2mm，所述容器固定层厚度为2mm。

本实用新型的有益效果在于：

1.本实用新型是针对薄膜材料光学性质的测试装置，可以在薄膜材料与气体或液体进行化学反应的同时，对薄膜材料的荧光光谱、紫外可见光谱等光学性质进行实时连续监测，克服了目前光谱学测试中传统比色皿只能测定溶液的限制和必须分离测定的缺点，充分捕捉到实验过程中的相关数据，为实验结果提供了更有力的数据与证明。

2.薄膜材料固定板高度超出反应池主体高度，可以方便配合光谱仪安装固定。本实用新型操作简单、安全，尤其在薄膜荧光传感器、薄膜光敏太阳能电池等方面具有较大商业价值。

附图说明

图1为本实用新型一种薄膜光谱反应池的结构示意图；

图2为本实用新型薄膜材料固定板和卡槽位的主视图；

图3为本实用新型薄膜材料固定板和卡槽位的俯视图；

附图标记：