[实用新型]一种基于多探头波束合成技术的测量设备

权利要求书

1.一种基于多探头波束合成技术的测量设备，其特征在于，包括电波暗室、环形支架、待测物转台、波束合成网络和至少两个实际探头，所述环形支架垂直设置在所述电波暗室，控制台分别与所述待测物转台、所述波束合成网络连接，所述波束合成网络与所述实际探头连接，所述待测物转台设置在所述环形支架的底部，所述待测物转台的顶部位于所述环形支架的中心，所述实际探头设置在所述环形支架上。

2.根据权利要求1所述的基于多探头波束合成技术的测量设备，其特征在于，所述实际探头均匀或者不均匀设置在所述环形支架上。

3.根据权利要求2所述的基于多探头波束合成技术的测量设备，其特征在于，所述电波暗室内壁为导体层，所述电波暗室内壁设置有吸波棉。

4.根据权利要求3所述的基于多探头波束合成技术的测量设备，其特征在于，所述吸波棉为三维立体空间结构，所述三维立体空间结构为圆柱体、球体或者六面图。

5.根据权利要求1所述的基于多探头波束合成技术的测量设备，其特征在于，所述波束合成网络设置有与所述实际探头数量相对的输出支路。

6.根据权利要求1所述的基于多探头波束合成技术的测量设备，其特征在于，所述的控制台包括硬件及控制软件。