[实用新型]具有杂光消除结构的光学元件有效

专利信息
申请号: 201921217048.2 申请日: 2019-07-30
公开(公告)号: CN210323530U 公开(公告)日: 2020-04-14
发明(设计)人: 梁永福 申请(专利权)人: 新钜科技股份有限公司
主分类号: G02B7/02 分类号: G02B7/02
代理公司: 北京北新智诚知识产权代理有限公司 11100 代理人: 朱丽华
地址: 中国台*** 国省代码: 台湾;71
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摘要:
搜索关键词: 具有 消除 结构 光学 元件
【说明书】:

本实用新型公开了一种具有杂光消除结构的光学元件,包括一本体,该本体为环状而定义一轴向,该本体具有一内环面与一外环面,该本体供设于一镜头座的内部而以其外环面与该镜头座的内壁连结,该本体沿该轴向上的相对两端分别定义为一第一端与一第二端,该本体于该内环面设有复数杂光消除结构,该些杂光消除结构绕该轴向间隔排列,各该杂光消除结构的表面不与该本体的内环面同平面,各该杂光消除结构具有较靠近该第一端的一第三端以及较靠近该第二端的一第四端,各该杂光消除结构的延伸路径不与该第三端与该第四端的连线完全重合。基于本实用新型的上述结构能有效消除杂散光对成像的影响。

技术领域

本实用新型有关于一种光学元件,特别是关于一种具有杂光消除结构的光学元件。

背景技术

一般而言,镜头等光学装置由镜片等光学元件所组成,并多具有间隔环或压环等元件来固定镜片的位置,而由于并非整个镜片都能用来进行有效成像,且其他元件亦会造成光线的反射,当光线射至非光学部的位置时,会形成杂散光,杂散光可能会影响成像品质,故应尽力避免。

为了避免杂散光影响成像,通常会利用凹凸不平的结构来分散杂散光,以避免杂散光集中,例如中国台湾专利号TW I612354、TW I616697、TW I639029中所示,通常于镜片的光学部周围或间隔环的内环面等处形成细微的凹凸结构。

然而,习知的凹凸结构形状极为均匀,例如同心圆环状凹槽、放射状径向直线凹槽等,所形成的反射表面方向一致,甚至有集中杂散光的可能性,对于消除杂散光的成效有待加强。

实用新型内容

本实用新型的主要目的在于提供一种具有杂光消除结构的光学元件,能有效消除杂散光对成像的影响。

为达成上述目的,本实用新型提供一种具有杂光消除结构的光学元件,包括一本体,该本体为环状而定义一轴向,该本体具有一内环面与一外环面,该本体供设于一镜头座的内部而以其外环面与该镜头座的内壁连结,该本体沿该轴向上的相对两端分别定义为一第一端与一第二端,该本体于该内环面设有复数杂光消除结构,该些杂光消除结构绕该轴向间隔排列,各该杂光消除结构的表面不与该本体的内环面同平面,各该杂光消除结构具有较靠近该第一端的一第三端以及较靠近该第二端的一第四端,各该杂光消除结构的延伸路径不与该第三端与该第四端的连线完全重合。

为达成上述目的,本实用新型另提供一种具有杂光消除结构的光学元件,包括一本体,该本体定义一轴向,该本体于其中央具有一光学部,并于该光学部径向上的外侧具有一环绕该光学部的消光部,该本体于该消光部设有复数杂光消除结构,该些杂光消除结构绕该轴向间隔排列,各该杂光消除结构的表面不与该本体的消光部同平面,各该杂光消除结构具有较靠近该光学部的一第三端以及较远离该光学部的一第四端,各该杂光消除结构的延伸路径不与该第三端与该第四端的连线完全重合。

本实用新型的优点是:

本实用新型提供的具有杂光消除结构的光学元件,能有效消除杂散光对成像的影响。

附图说明

图1是本实用新型的立体图。

图2是本实用新型的立体分解图。

图3是本实用新型的剖面图。

图4是本实用新型的杂散光路径示意图。

图5是本实用新型的部分立体图。

图6是本实用新型的第二实施例的部分立体图。

图7是本实用新型的第三实施例的部分立体图。

图8是本实用新型的第四实施例的部分立体图。

图9是本实用新型的第五实施例的部分立体图。

图10是本实用新型的第六实施例的部分立体图。

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