[实用新型]玻璃立式磁控溅射镀膜专用工件架

说明书

玻璃立式磁控溅射镀膜专用工件架，包括工件架主体、固定钢丝、支撑杆、限位缺口，所述工件架主体由横杆与纵杆构成，所述横杆与纵杆之间呈90°角固定连接，所述横杆与纵杆的前端面与后端面分别平齐，所述纵杆的上端、下端分别设有固定钢丝与支撑杆，所述支撑杆与纵杆垂直设置，所述支撑杆上设有限位缺口。本实用新型的优点在于：取消了胶带固定，有效提高了作业效率和良品率，通过在纵杆底部设置支撑杆，并在支撑杆上开设有三角形的限位缺口，顶部设有固定钢丝，镀膜时将玻璃底部卡在限位缺口内，顶部由固定钢丝限位，由于固定钢丝直径较小、强度较大，既可以防止运动过程中玻璃掉落，又可以使溅射中的原子颗粒可以绕过固定钢丝，保证镀层的均匀。

技术领域

本实用新型涉及一种工件架，尤其涉及一种玻璃立式磁控溅射镀膜专用工件架。

背景技术

磁控溅射是物理气相沉积(Physical Vapor Deposition，PVD)的一种，一般的溅射法可被用于制备金属、半导体、绝缘体等多材料，且具有设备简单、易于控制、镀膜面积大和附着力强等优点，上世纪70年代发展起来的磁控溅射法更是实现了高速、低温、低损伤，因为是在低气压下进行高速溅射，必须有效地提高气体的离化率，磁控溅射通过在靶阴极表面引入磁场，利用磁场对带电粒子的约束来提高等离子体密度以增加溅射率，采用磁控溅射对玻璃进行镀膜时，需要利用工件架对玻璃进行支撑，现有的工件架在使用中发现，通常在玻璃底部使用螺丝支撑，背面采用胶带粘贴的方式将玻璃固定在工件架上，胶带固定需要一定的压力，才能保证粘接力，按压时容易在玻璃表面留有痕迹，导致镀膜后外观不良，并且此种固定方式取放不便，导致工作效率低，此外，支撑螺丝帽容易阻挡磁控溅射中的原子，导致镀层不均匀。

发明内容

根据以上技术问题，本实用新型提供一种玻璃立式磁控溅射镀膜专用工件架，其特征在于包括工件架主体、固定钢丝、支撑杆、限位缺口，所述工件架主体由横杆与纵杆构成，所述横杆与纵杆的数量分别为N个，N≥2，所述横杆与纵杆之间呈90°角固定连接，所述横杆与纵杆的前端面与后端面分别平齐，所述纵杆的上端、下端分别设有固定钢丝与支撑杆，所述支撑杆与纵杆垂直设置，所述支撑杆上设有限位缺口。

进一步的，所述固定钢丝为Y型结构，Y型结构的上端固定套在纵杆上，Y型结构的下端与纵杆呈一定角度设置。

进一步的，Y型结构的下端与纵杆所呈角度范围为15°至45°。

进一步的，所述限位缺口位于支撑杆远离纵杆的一端。

进一步的，所述限位缺口为三角形结构。

本实用新型的有益效果为：本实用新型为玻璃立式磁控溅射镀膜专用工件架，取消了胶带固定，有效提高了作业效率和良品率，通过在纵杆底部设置支撑杆，并在支撑杆上开设有三角形的限位缺口，顶部设有固定钢丝，镀膜时将玻璃底部卡在限位缺口内，顶部由固定钢丝限位，由于固定钢丝直径较小、强度较大，既可以防止运动过程中玻璃掉落，又可以使溅射中的原子颗粒可以绕过固定钢丝，保证镀层的均匀。

附图说明

图1为本实用新型主体结构示意图；

图2为本实用新型侧视图；

图3为A点放大示意图；

图4为现有工件架主体结构示意图；

图5为现有工件架侧视图；

图6为B点放大示意图。

如图，工件架主体-1、横杆-11、纵杆-12、固定钢丝-3、支撑杆-4、限位缺口-5、玻璃-6、胶带-7、支撑螺丝-8、螺丝帽-9。

具体实施方式