[实用新型]一种精抛布的清理工具

说明书

本实用新型公开了一种精抛布的清理工具，属于抛光清理设备领域，包括放置在抛光机上的清洁板，还包括用于清理所述精抛布的清洁机构，所述清洁机构包括可转动地设置在所述清洁板底部的多个清洁盘、与所述清洁盘固定连接的连接轴和用于引导抛光液至精抛布上的引流组件；所述连接轴的顶端与抛光机的压头传动连接，所述清洁盘的底端设置有多个刷头；本实用新型设置有多个清洁盘用于同时对精抛布进行清理，清洁盘安装在抛光机的压头上，通过抛光机的运作自动进行清理，受力均匀，清理效果更好，延长抛布的使用寿命。

技术领域

本实用新型涉及抛光清理设备领域，特别涉及一种精抛布的清理工具。

背景技术

抛光是硅片的加工工序之一，要求抛光表面具有晶格完整性、高的平面度及洁净性，在抛光时使用抛光机进行抛光，精抛布与硅片之间的不停转动摩擦，在抛光液的作用下，通过不断去除水合膜来进行无损伤抛光，在抛光完成后需要对精抛布进行清理，目前都是手动清洗，需要靠员工自觉清理抛布，效率低浪费时间且手动清理受力不均，易损伤精抛布表面，缩短抛布的使用寿命。

实用新型内容

本实用新型提供一种精抛布的清理工具，可以解决现有技术中在清理精抛布时受力不均易损伤精抛布的问题。

一种精抛布的清理工具，包括放置在抛光机上的清洁板，还包括用于清理所述精抛布的清洁机构，所述清洁机构包括可转动地设置在所述清洁板底部的多个清洁盘、与所述清洁盘固定连接的连接轴和用于引导抛光液至精抛布上的引流组件；

所述清洁盘的数量与抛光机的压头的数量相同；

所述连接轴的顶端与抛光机的压头传动连接，所述清洁盘的底端设置有多个刷头。

较佳的，所述引流组件包括多个引流块和位于抛光液出口正下方的引流组件主体，所述引流块和所述引流组件主体均固定连接在所述清洁板上，多个引流块周向且均匀地固定在所述引流组件主体的周侧上，所述引流组件主体的顶部开设有蓄液槽，多个所述引流块上均开设有与所述蓄液槽相通的引流槽，多个所述引流槽内均开设有通孔，所述通孔贯穿所述清洁板，且每个所述通孔均位于两个所述清洁盘之间。

较佳的，所述连接轴的顶端固定连接有卡块，所述压头上开设有与所述卡块相配合的卡槽，所述压头和所述连接轴同轴转动。

较佳的，所述引流组件主体位于所述清洁板的中心位置处，所述引流槽具有一定弧度且所述引流块的高度由清洁板的中心向四周逐渐降低。

较佳的，所述清洁板上固定安装有把手。

较佳的，所述连接轴上焊接有调节杆。

较佳的，所述清洁板的底部中心也安装有多个所述刷头。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：

本实用新型设置有多个清洁盘用于同时对精抛布进行清理，清洁盘安装在抛光机的压头上，通过抛光机的运作自动进行清理，受力均匀，清理效果更好，延长抛布的使用寿命；

设置有引流组件，通过引流组件能够将位于中心处的抛光液管所流出的抛光液引流至抛光布上、无需再接入其他液体介质，员工在清理时，操作起来更加方便；

清洁板的两侧均固定安装有把手，方便员工将其搬至抛光机上，连接轴上焊接有调节杆，方便连接轴与抛光机的压头之间对接。

附图说明

图1为本实用新型在清理精抛布时的结构示意图；

图2为本实用新型的图1的A-A处剖视图；

图3为本实用新型的结构示意图；

图4为本实用新型的图3的B处局部放大图。

图5为本实用新型的俯视图；