[实用新型]一种窑炉排胶室密封清理结构

说明书

本实用新型属于窑炉及热处理设备技术领域，尤其涉及一种窑炉排胶室密封清理结构。清理结构包括设置于窑炉底部两侧的支撑体以及设于支撑体以及窑炉内壁上的下料通道；支撑体为条状且沿窑炉底部两侧边角延伸，支撑体断面为T形，支撑体的横臂靠近窑炉中间的一侧设置有限位斜面，横臂的另一侧抵在窑炉内壁上；抵在窑炉内壁的一侧上设置有下料孔；下料通道包括埋设于窑炉下方的出料管路，以及连接出料管路和下料孔的收集通道；排胶出料管路通过密封阀与外部水泵连接。本实用新型整体结构简单，施工方便，通过简单地炉体机构实现了窑炉内部杂质的有效清理，避免料车转运过程中将杂质撒落在窑炉内部难以清除的问题。

技术领域

本实用新型属于窑炉及热处理设备技术领域，尤其涉及一种窑炉排胶室密封清理结构。

背景技术

随着人们生活水平的不断提高，人们对居住条件，以及环境美化状况的要求不断提高，在房屋住宅、社区宿舍等建筑场合的施工过程中，需要大量的陶瓷类产品，如砖瓦、结构件、装饰品、墙面结构等，需求量的大量增加也带动了陶瓷生产烧制产业的快速发展，同时客户对产品的烧制质量的要求也越来越高，在产品烧结过程中，要依次经过高温成烧、杂质挥发、排水排胶等各工艺流程；由于在各工艺流程中不同区域所需要的时间、温度等各不相同，因此需要使用料车来在各区域间转运产品或者原材料，料车在运送过程中，会沿途洒落各种灰尘杂质，长时间以后导致窑炉内部空间杂质堆叠，影响窑炉性能以及产品质量。

实用新型内容

本实用新型的目的在于，提供一种能够减小料车转运过程中杂质撒落，特别适用于粉末类原料转运加工过程中提高杂质清理效率，提高窑炉内部清洁度，以保证产品质量以及提高转运效率的窑炉排胶室密封清理结构。

为实现上述目的，本实用新型采用如下技术方案。

一种窑炉排胶室密封清理结构，管式窑炉的底部设置有清理结构；

清理结构包括设置于窑炉1底部两侧的支撑体2以及设于支撑体以及窑炉内壁上的下料通道3；支撑体2为条状且沿窑炉1底部两侧边角延伸，支撑体2断面为T形，以断面为基准，支撑体2的横臂2a靠近窑炉1中间的一侧设置有限位斜面2b，横臂2a的另一侧抵在窑炉1内壁上；支撑体2含有限位斜面2b的一侧为完整的条状结构，抵在窑炉1内壁的一侧上设置有下料孔2c，下料孔2c向下延伸至窑炉1底部；下料通道3包括埋设于窑炉下方的出料管路3a，以及连接出料管路3a和下料孔2c的收集通道3b；出料管路3a连接至外部水泵，出料管路3a还包括独立的设置在排胶室下方的排胶出料管路3a，排胶出料管路3a前后端独立设置并设置有密封阀，排胶出料管路3a通过密封阀与外部水泵连接。

对前述窑炉排胶室密封清理结构的进一步改进还包括，包括设于管式窑炉中的排胶室4，排胶室前端设置有密封结构；

密封结构设置于排胶室与其他窑炉分室之间，包括尺寸与结构与前后端的窑炉1结构相同并密封连接的连接体5，连接体5靠近排胶室4的一侧设置有从上向下延伸的安装槽5a，安装槽5a内设置有密封门5b，密封门5b的背部设置有齿条安装槽5c，齿条安装槽5c内设置有驱动齿条5d；

连接体5的顶部设置有驱动室6，驱动室内设有驱动电机6a以及齿轮箱，驱动电机6a通过齿轮箱内的齿轮组变速后与驱动齿条5d连通。

对前述窑炉排胶室密封清理结构的进一步改进还包括，还包括设于窑炉底部的料车导轨7以及可以沿料车导轨7运动的料车8，料车8的顶部设置有挡料边沿，挡料边沿向两侧延伸至下料孔2c的上方。

对前述窑炉排胶室密封清理结构的进一步改进还包括，下料孔2c由支撑体2的横臂2a向窑炉1内壁延伸的多个支撑脚2d围成；在各支撑脚2d下方，窑炉1的内壁相应位置的壁面向支撑体2延伸并抵住支撑体1。

对前述窑炉排胶室密封清理结构的进一步改进还包括，密封门5b是由耐热材料制成的空心壳体结构。

其有益效果在于：