[实用新型]一种光罩传送装置

说明书

本实用新型涉及半导体制造技术领域，尤其涉及一种光罩传送装置。所述光罩传送装置包括：承载部，用于承载光罩；吹扫部，设置于所述承载部的上方，用于向位于所述承载部上的所述光罩进行气体吹扫，以去除所述光罩表面的颗粒物。本实用新型确保了所述光罩表面的清洁，避免曝光时晶圆上光刻胶图案产生缺陷，提高了产品良率。

技术领域

本实用新型涉及半导体制造技术领域，尤其涉及一种光罩传送装置。

背景技术

动态随机存储器(Dynamic Random Access Memory，DRAM)等半导体器件的制造工艺中，光刻是至关重要的步骤。在光刻工艺中，光罩的洁净度是确保光刻质量的重要因素。但是，现有的工艺技术并不能对光罩进行有效的清洁，特别是在光刻工艺中，光刻机台中并没有专门的清洁系统清洁光罩表面，导致光罩探测系统(Integrated Reticle InspectionSystem，IRIS)检测到光罩表面存在颗粒物之后必须从光刻机台中取出光罩，在光刻机台外部对光罩进行清洁。这种清洁方式：一方面，将光罩从机台取出再送进的过程极大的耗费时间，减少机台产能；另一方面，难以避免在后续的传输过程中光罩表面出现二次污染。

因此，如何提高光罩的洁净度，改善晶圆光刻质量，提高产品良率，是目前亟待解决的技术问题。

实用新型内容

本实用新型提供一种光罩传送装置，用以解决现有技术不能对光罩进行有效清洁的问题，以改善光刻质量，提高产品良率。

为了解决上述问题，本实用新型提供了一种光罩传送装置，包括：

承载部，用于承载光罩；

吹扫部，设置于所述承载部的上方，用于向位于所述承载部上的所述光罩进行气体吹扫，以去除所述光罩表面的颗粒物。

优选的，还包括：

第一转轴，连接所述吹扫部；

第一驱动器，连接所述第一转轴，用于驱动所述第一转轴在第一预设角度范围内自转，以调整所述吹扫部与所述承载部之间的相对位置。

优选的，还包括：

第二转轴，连接所述承载部；

第二驱动器，连接所述第二转轴，用于驱动所述第二转轴在第二预设角度范围内自转，以传输所述光罩。

优选的，所述第一转轴连接所述吹扫部的端部，所述第二转轴连接所述承载部的端部，且所述第二转轴嵌套于所述第一转轴内部。

优选的，还包括：

传感器，连接所述第一驱动器，用于检测所述第一驱动器的驱动参数，以获取所述吹扫部的转动角度。

优选的，所述吹扫部包括管道和过滤器；

所述管道的一端连接气源、另一端连接所述过滤器，用于向所述过滤器传输气体；

所述过滤器用于除去所述气体中的污染物，并将过滤后的所述气体传输至所述光罩。

优选的，所述吹扫部还包括风刀；所述风刀的进风侧与所述过滤器连通；

所述风刀的出风侧包括第一区域，在所述吹扫部对所述光罩进行吹扫时，所述第一区域在竖直方向上的投影至少覆盖所述光罩；

所述第一区域具有多个相对于所述承载部倾斜一预设角度的第一导流板，用于对所述光罩进行倾斜吹扫。

优选的，所述出风侧还包括第二区域，在所述吹扫部对所述光罩进行吹扫时，所述第二区域在竖直方向上的投影自所述光罩远离所述第二转轴的端部延伸出所述光罩；

所述第二区域具有多个沿竖直方向延伸的第二导流板，用于竖直向下吹扫气体。