[实用新型]一种基于地埂和植物篱的面源污染防控装置有效

专利信息
申请号: 201921279724.9 申请日: 2019-08-08
公开(公告)号: CN210900272U 公开(公告)日: 2020-07-03
发明(设计)人: 程金花;郑永林;张洪江;王海燕;王一格 申请(专利权)人: 北京林业大学
主分类号: A01B79/02 分类号: A01B79/02;A01G17/00;A01G20/00
代理公司: 北京众合诚成知识产权代理有限公司 11246 代理人: 王学芝
地址: 100083 北京市*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 基于 地埂 植物 污染 装置
【说明书】:

实用新型属于土地治理技术领域,公开了一种基于地埂和植物篱的面源污染防控装置,地埂修建在坡地上,地埂上端开设有苗木种植区,苗木种植区栽植有乔木、灌木或草本植物组成的植物篱;地埂为土埂或石埂,土埂上部为土质地埂,下部为土质田坎,石埂上部为土质地埂,下部为干砌石质田坎。本实用新型提出的基于地埂和植物篱的优化构建模式可提高土地生产力50%以上,减少坡耕地土壤流失量50%以上,提高坡耕地降水利用率20%以上,减少面源污染量约30%,有效地改善了农业生态环境,而且还可带来改良土壤和固土保肥的生态功能。

技术领域

本实用新型属于土地治理技术领域,尤其涉及一种基于地埂和植物篱的面源污染防控装置。

背景技术

目前,业内最接近的现有技术:

集约化农业是引起水污染的主要原因之一,大量研究表明集约化耕作会导致土壤退化和水体富营养化,引发严重的农业面源污染。表现为土壤肥力质量下降,水体总悬浮物增加、营养物质和粪大肠杆菌等超标。种植植物篱是目前改善这一现状的主要措施。植物篱可以过滤径流,促进悬浮颗粒的沉降,捕获径流中输送的沉积物、养分和其余污染物,是一种简单、便宜和高效的面源污染防治措施。

植物篱是指种植在等高线的斜坡上,由乔木、灌木和草本单独或者组合而成的植被带。其中筛选出的乔木主要有桑树、柑橘、花椒、梨树、李、沙梨、黄槐、紫穗槐和臭椿;灌木主要有黄荆、八角枫、新银合欢和黑荆;草本主要有紫背天葵、旱菜、空心莲子草、香根草、蓑草、皇竹草、紫花苜蓿和黄花菜。乔木和灌木植物篱主要通过植苗造林方式栽植,而草本植物篱采用条播和点播栽植。

植物篱种类繁多,对面源污染的防控效果各异,而不同植物篱在不同坡度的防控效果也不相同。因此,筛选出适合当地环境的植物篱种类尤为迫切。

综上所述,现有技术存在的问题是:

现有的植物篱种类繁多,对面源污染的防控效果各异,而不同植物篱在不同坡度的防控效果也不相同,无法选择适合当地环境的植物篱种类。

缺乏针对具体坡度的植物篱选择和不同植物篱配置模式下的地埂和植物选择指导;缺乏相应的土壤侵蚀实验以确定植物篱的最大间距。

解决上述技术问题的难度:

坡度不同,植物篱对坡面径流中面源污染物的拦截能力不同,只有进行模拟实验,才能确定不同坡度应选择的植物篱种类和植物篱的最大间距。

解决上述技术问题的意义:

遵循“适地适树,适地适草”原则,在不同的坡度,选择不同的植物篱种类和配置模式,可以有效地增加植物篱对面源污染物的拦截能力,降低径流中氮磷含量和泥沙量,这将有助于实现面源污染在运输过程中的阻断和削减。对于改善我国面源污染现状具有重要的意义。

实用新型内容

针对现有技术存在的问题,本实用新型提供了一种基于地埂和植物篱的面源污染防控装置。

本实用新型是这样实现的,一种基于地埂和植物篱的面源污染防控装置设置有:

地埂;

所述地埂修建在坡地上,地埂上端开设有苗木种植区,苗木种植区栽植有乔木、灌木或草本植物组成的植物篱;

所述地埂为土埂或石埂,土埂上部为土质地埂,下部为土质田坎,石埂上部为土质地埂,下部为干砌石质田坎。

进一步,乔木高度不低于150cm,灌木的高度不低于30cm,草本高度不低于20cm。

进一步,所述植物篱上下两侧的坡地上各开设有一条边沟和背沟。

进一步,所述植物篱最小带间距大于植物篱的植物根系水平胁迫宽度,以利于农田耕作机械的作业,兼顾植物篱与带间作物对水肥的竞争问题。

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