[实用新型]一种提供受热均匀性的单晶体生产烧结炉有效
申请号: | 201921283844.6 | 申请日: | 2019-08-09 |
公开(公告)号: | CN210314569U | 公开(公告)日: | 2020-04-14 |
发明(设计)人: | 林志高 | 申请(专利权)人: | 福建鑫磊晶体有限公司 |
主分类号: | C30B35/00 | 分类号: | C30B35/00 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 352300 *** | 国省代码: | 福建;35 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 提供 受热 均匀 单晶体 生产 烧结炉 | ||
1.一种提供受热均匀性的单晶体生产烧结炉,包括烧结炉本体(1)、封闭门(2)、密封轴承(3)和电机(5),其特征在于:所述烧结炉本体(1)上铰链连接有封闭门(2),且烧结炉本体(1)的中部通过密封轴承(3)贯穿有内杆(4),并且内杆(4)的右端连接有电机(5),所述内杆(4)的外侧套设有套筒(7),且内杆(4)通过磁片(6)与套筒(7)相互连接,并且套筒(7)的左侧安装有把手(8),所述套筒(7)的表面设置有安装杆(9),且安装杆(9)的内部开设有滑槽(10),所述滑槽(10)的内部安装有复位弹簧(11),且滑槽(10)通过复位弹簧(11)与卡块(12)相互连接,并且卡块(12)的边侧设置有握把(13),所述卡块(12)之间安装有套杆(14),且套杆(14)通过连接杆(15)与装料腔(16)相互连接。
2.根据权利要求1所述的一种提供受热均匀性的单晶体生产烧结炉,其特征在于:所述内杆(4)与套筒(7)构成伸缩结构,且内杆(4)的正截面设置为两侧对称凸出状结构,并且套筒(7)的正截面设置为内壁对称内凹状结构,而且内杆(4)通过磁片(6)与套筒(7)之间为磁性吸附连接。
3.根据权利要求1所述的一种提供受热均匀性的单晶体生产烧结炉,其特征在于:所述套筒(7)与烧结炉本体(1)构成转动结构,且套筒(7)与烧结炉本体(1)之间为同轴设置。
4.根据权利要求1所述的一种提供受热均匀性的单晶体生产烧结炉,其特征在于:所述安装杆(9)等角度分布于套筒(7)的外侧,且安装杆(9)与套筒(7)之间为固定连接,并且安装杆(9)关于套筒(7)的中心轴线对称设置有6个。
5.根据权利要求1所述的一种提供受热均匀性的单晶体生产烧结炉,其特征在于:所述卡块(12)的侧截面设置为“十”字型结构,且卡块(12)与安装杆(9)构成伸缩结构,并且卡块(12)关于安装杆(9)的中心轴线对称设置。
6.根据权利要求1所述的一种提供受热均匀性的单晶体生产烧结炉,其特征在于:所述套杆(14)的正截面设置为圆环状结构,且套杆(14)与卡块(12)之间为转动连接,并且套杆(14)与卡块(12)构成拆卸安装结构。
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