[实用新型]一种内引线MOSFET版图结构及MOSFET芯片有效

专利信息
申请号: 201921289193.1 申请日: 2019-08-09
公开(公告)号: CN210272374U 公开(公告)日: 2020-04-07
发明(设计)人: 丁文华;习毓;陈骞;周新棋;智晶;田欢 申请(专利权)人: 西安卫光科技有限公司
主分类号: H01L29/78 分类号: H01L29/78;H01L29/423;H01L29/417
代理公司: 西安通大专利代理有限责任公司 61200 代理人: 高博
地址: 710065 *** 国省代码: 陕西;61
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 引线 mosfet 版图 结构 芯片
【说明书】:

本实用新型公开了一种内引线MOSFET版图结构及MOSFET芯片,包括MOSFET版,MOSFET版上设置有结终端,结终端的内部设置有元胞区,元胞区内设置有栅Pad和源pad。本实用新型取消了元胞区和结终端区的过渡区域,元胞区周围可以直接设计结终端区,从而有效缩小了芯片尺寸,适用于小电流的MOSFET芯片。

技术领域

本实用新型属于半导体技术领域,具体涉及一种内引线MOSFET版图结构及MOSFET芯片。

背景技术

随着6英寸分立器件芯片生产线在全国遍地开花,产品要在市场上取得竞争优势,除了提高产品成品率和可靠性之外,必须进一步缩小芯片尺寸,适应电子装置小型化要求,同时提高产品单片晶圆上的芯片颗粒数。对于小电流的MOSFET器件,由于版图结构中有源区四周栅极引线占用的面积比较大,要将芯片尺寸做到最小,常规的结构已经无法满足要求。本实用新型专利设计的结构,在不影响器件电学参数的情况下,可以有效减小芯片面积,提高产品单片晶圆上的芯片颗粒数。

实用新型内容

本实用新型所要解决的技术问题在于针对上述现有技术中的不足,提供一种内引线MOSFET版图结构及MOSFET芯片,在不影响器件电学参数的情况下,可以有效减小芯片面积,增加硅片上单芯片的数目。

本实用新型采用以下技术方案:

一种内引线MOSFET版图结构,包括MOSFET版,MOSFET版上设置有结终端,结终端的内部设置有元胞区,元胞区内设置有栅Pad和源pad。

具体的,栅Pad与栅极引线连接,栅极引线与栅Pad连接形成U型区域,在U型区域内设置有cell区。

进一步的,源pad设置在U型区域的开口处。

本实用新型的另一个技术方案是,一种MOSFET芯片,应用版图结构,版图结构沿X方向和Y方向尺寸分别缩小90~108μm。

具体的,MOSFET芯片包括沟槽式的MOSFET器件结构。

进一步的,MOSFET芯片为600V以下小电流的N沟道和P沟道MOSFET器件。

与现有技术相比,本实用新型至少具有以下有益效果:

⑴栅电极由外引线改为内引线,源极不需要再设计延伸电极,因此取消了版图设计过程中有源区边缘栅电极和源电极隔离区所占的面积,以及源极延伸电极所占的面积,缩小了器件最终的芯片尺寸;

⑵栅电极采用内引线结构,在规定的芯片尺寸下,节省的面积可以排布更多的元胞,从而有效降低器件最终的导通电阻。

综上所述,本实用新型取消了元胞区和结终端区的过渡区域,元胞区周围可以直接设计结终端区,从而有效缩小了芯片尺寸,适用于小电流的MOSFET芯片。

下面通过附图和实施例,对本实用新型的技术方案做进一步的详细描述。

附图说明

图1为本实用新型内引线结构示意图;

图2为外引线结构示意图。

其中:1.结终端;2.栅极引线;3.栅Pad;4.cell区;5.元胞区;6.源pad;7.源极金属;8.隔离层。

具体实施方式

请参阅图1,本实用新型公开了一种内引线MOSFET版图结构及MOSFET芯片,包括结终端1、栅极引线2、栅Pad3、cell区4、元胞区5和源pad6;元胞区5设置在结终端1的内部,栅Pad3和源pad6设置在元胞区5内,栅极引线2与栅Pad3连接形成U型区域,cell区4设置在U型区域内,源pad6设置在U型区域的开口处。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于西安卫光科技有限公司,未经西安卫光科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201921289193.1/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top