[实用新型]一种动态校准的扫描式UV曝光光源系统有效
申请号: | 201921293415.7 | 申请日: | 2019-08-12 |
公开(公告)号: | CN210573185U | 公开(公告)日: | 2020-05-19 |
发明(设计)人: | 涂刚峰 | 申请(专利权)人: | 广州嘉禾盛信息科技有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 北京科亿知识产权代理事务所(普通合伙) 11350 | 代理人: | 陶志国 |
地址: | 510000 广东省广州市高*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 动态 校准 扫描 uv 曝光 光源 系统 | ||
本实用新型公开了一种动态校准的扫描式UV曝光光源系统,包括箱体、光源装置及散热结构,箱体包括底面、侧面及发光面,侧面设于底面上,发光面设于侧面上,且发光面上设有多个开孔,多个开孔按照设定规则均匀排列;光源装置包括多个实时反馈的动态扫描式平行光源,该多个平行光源均设置在箱体内部;该多个平行光源与多个开孔的数量一致,并且每个平行光源对向于每个开孔;散热结构设置在箱体的侧面。其中,本申请的光源为采用实时反馈的动态扫描式平行光源,且该平行光源设有多个,由此,不但减少了单个光源的数量,减少了校正的时间,还可提高整体的转配效率;同时,配置了散热结构,使产品在工作中能快速散发热量。
技术领域
本实用新型涉及曝光机的技术领域,尤其涉及一种动态校准的扫描式UV 曝光光源系统。
背景技术
当前,由于传统的曝光机光源均采用大面积阵列设置的布置方式,那么,如果要调整光源时,每个灯都要调整其垂直度和平行性,而这样,不但耗费大量时间,而且光源的平行度调整难以保证,效率极低;同时,若其中的一个或部分光源出现偏差,均需要从新校正,操作麻烦,而且也难以保证光源的均匀性。
因此,有必要提供一种技术手段以解决上述缺陷。
实用新型内容
本实用新型的目的在于克服现有技术之缺陷,提供一种动态校准的扫描式 UV曝光光源系统,以解决现有技术中的曝光机光源在调整过程中存在耗时多、操作麻烦、以及光源的平行性及均匀性难以保证的问题。
本实用新型是这样实现的,一种动态校准的扫描式UV曝光光源系统,包括:
箱体,所述箱体包括底面、侧面及发光面,所述侧面设于所述底面上,且所述侧面包括前侧面、后侧面、左侧面及右侧面,所述前侧面与所述后侧面相对间隔设置,所述左侧面与所述右侧面相对间隔设置,且所述左侧面分别与所述前侧面、所述后侧面连接,所述右侧面分别与所述前侧面、所述后侧面连接;所述发光面设于所述侧面上,且所述发光面上设有多个开孔,所述多个开孔按照设定规则均匀排列;
光源装置,所述光源装置包括多个实时反馈的动态扫描式平行光源,该多个平行光源均设置在所述箱体内部;该多个平行光源与所述多个开孔的数量一致,并且每个所述平行光源对向于每个所述开孔;
散热结构,所述散热结构设置在所述箱体的侧面,用于将所述光源装置产生的热量快速散发;
其中,所述光源装置还包括与所述多个平行光源的数量对应的多个独立式调节机构,每个所述独立式调节机构设置在每个所述平行光源的顶端,并与所述发光面连接,用于调整对应的所述平行光源的光源准直度和均匀性;
所述开孔设有两排,每排所述开孔沿同一直线方向均匀排列布置。
具体地,所述光源装置还包括与所述多个平行光源的数量对应的多个光源固定座,每个所述光源固定座设置在每个所述平行光源的底部,用于将对应的所述平行光源支撑在所述箱体内部。
具体地,所述光源装置还包括与所述多个平行光源的数量对应的多个光源散热器,每个所述光源散热器设置在每个所述平行光源的下侧侧面,用于将对应的所述平行光源产生的热量散发。
进一步地,所述光源散热器为栅格式散热器。
优选地,所述光源散热器对向于所述散热结构。
具体地,所述开孔为长条形开孔。
具体地,所述散热结构包括设于所述箱体的侧面的散热孔。
具体地,所述发光面上设置多个安装孔位,用于固定所述箱体。
与现有技术相比,本实用新型的有益效果是:
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