[实用新型]一种带均压罩的进料管结构

说明书

本实用新型提供一种带均压罩的进料管结构，包括染色槽，所述染色槽底面的一端开设有出料口，另一端开设有进料口，所述进料口设有L型进料管，所述L型进料管位于染色槽外部的一端连接有循环泵，所述L型进料管位于染色槽内部的一端设有均压罩，所述均压罩罩设于L型进料管外部，且均压罩与所述染色槽的底面相贴，所述均压罩表面均匀开设有若干进料孔，所述均压罩的外部设置有提取均压罩的提取组件。本实用新型结构合理，通过在进料管上罩设一均压罩降低染液流速，避免靠近进料管部分的染液快速冲击偏光膜，染色因子无法长时间停留于偏光膜的现象，提高了偏光膜的染色均匀度。

技术领域

本实用新型涉及偏光膜染色技术领域，具体为一种带均压罩的进料管结构。

背景技术

染色槽内常设置有供染液流入的进料管，现有技术的进料管的结构如下：包括若干根等距固定于染色槽内的长条形的进料管，且进料管上开设有布满整个进料管的进料孔。具体地操作就是通过循环泵把一定浓度的染液循环输进进料管内，并通过进料孔对偏光膜进行染色，但是此进料管的缺点就是染液不断从进料管的进料孔内喷出，当偏光膜在染色槽内传送时，染液从进料孔喷出的染液速度较快，部分可以直接喷至偏光膜上，其冲击力导致染液内的染色因子与偏光膜的接触时间过短，从而导致偏光膜在染色时常出现染色不均的问题。

针对以上问题，有待提出一种新的解决方案。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种带均压罩的进料管结构，以解决技术背景中提到的问题，通过在进料管上罩设一均压罩来解决染液冲击偏光膜的问题，提高了偏光膜的染色均匀度。

本实用新型的上述技术目的是通过以下技术方案得以实现的：

一种带均压罩的进料管结构，包括染色槽，所述染色槽底面的一端开设有出料口，另一端开设有进料口，所述进料口设有L型进料管，所述L型进料管位于染色槽外部的一端连接有循环泵，所述L型进料管位于染色槽内部的一端设有均压罩，所述均压罩罩设于L型进料管外部，且均压罩与所述染色槽的底面相贴，所述均压罩表面均匀开设有若干进料孔，所述均压罩的外部设置有提取均压罩的提取组件。

采用上述技术方案，通过循环泵把染液从进料口的L型进料管内输进，通过一个比L型进料管大的均压罩，染液的流速变慢，那么从均压罩的进料孔出来的染液就会处于一个稳定的状态，并且在染色槽内绵延不断向前扩散，避免了染液直接以高流速冲击偏光膜造成染色深浅不一的问题。

作为优选，所述均压罩为一面敞口的长方体，所述均压罩敞口的一面盖设于L型进料管，所述均压罩两端的侧面未设置进料孔，所述均压罩敞口的一面分别向四周延伸出四块压板，四块所述压板相互连接。敞口设置便于均压罩的装卸，压板的设置便于后期磁铁以及密封条的安装。

作为优选，四个所述压板向内开设有放置腔一，所述染色槽底面与放置腔一相对的位置开设有放置腔二，所述放置腔一和放置腔二内均固定嵌设有强磁，所述强磁相互吸附。磁铁的设置起到把均压罩牢牢固定于染色槽槽底的作用，无需增设机构，具有省空间省成本的作用。

作为优选，所述提取组件包括L形杆和凹槽，所述L形杆的一端螺纹旋紧于均压罩，另一端卡设于凹槽内，所述凹槽开设于染色槽侧壁顶部。通过从凹槽内提取L形杆，可以实现把均压罩从染色槽内拿出，进行维护清理，无需工人身体趴入槽内进行提取，省去了人工弯腰的麻烦，另外凹槽起到对L形杆以及均压罩定位的作用，当L形杆正好卡设于凹槽内时，均压罩罩设的位置也是正确的。

作为优选，所述均压罩的数量为一个，所述均压罩内L型进料管的数量为两个，且分别位于均压罩的两端。相比现有技术，大大减少了进料管的数量以及进料管的长度，一方面降低成本，另一方面，染液先从L型进料管中进入一个腔体，即均压罩，可以起到将大动压的染液变成一个稳定的静压状态，可以起到使染液能够绵延不断持久地向外扩展蔓延的作用。