[实用新型]磁存储器件有效
申请号: | 201921308124.0 | 申请日: | 2019-08-13 |
公开(公告)号: | CN210110840U | 公开(公告)日: | 2020-02-21 |
发明(设计)人: | 黄嘉晔;俞文杰;刘强 | 申请(专利权)人: | 上海新微技术研发中心有限公司 |
主分类号: | H01L43/08 | 分类号: | H01L43/08;H01L43/10;H01L27/22 |
代理公司: | 苏州国卓知识产权代理有限公司 32331 | 代理人: | 明志会 |
地址: | 201800 上*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 磁存储器 | ||
1.一种磁存储器件,包括
固定层、通道隔离层、自由层;
所述通道隔离层位于所述固定层和所述自由层之间;
其特征在于,
还包括非磁性层,所述非磁性层位于所述自由层上,所述非磁性层与所述自由层材料不相同。
2.根据权利要求1所述的磁存储器件,其特征在于,所述非磁性层材料为镁、钛、铬、铜氧/氮化物中的至少一种。
3.根据权利要求1所述的磁存储器件,其特征在于,所述自由层具有相对的第一面和第二面,所述第二面较所述第一面远离所述通道隔离层,在所述第一面与所述通道隔离层中间有非磁性薄膜层。
4.根据权利要求1所述的磁存储器件,其特征在于,所述固定层和所述自由层为CoFe、NiFe、CoFeB、CoFeCr、CoFePt、CoFePd、CoFeTb、CoFeGd或CoFeNi中的至少一种。
5.根据权利要求1所述的磁存储器件,其特征在于,还包括第一电极和第二电极;所述第一电极位于所述固定层下方,所述第二电极位于所述自由层上方。
6.根据权利要求1所述的磁存储器件,其特征在于,还包括半导体器件,所述半导体器件与所述固定层电连接。
7.根据权利要求1所述的磁存储器件,其特征在于,还包括衬底,所述衬底位于所述固定层下方。
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