[实用新型]磁存储器件有效

专利信息
申请号: 201921308124.0 申请日: 2019-08-13
公开(公告)号: CN210110840U 公开(公告)日: 2020-02-21
发明(设计)人: 黄嘉晔;俞文杰;刘强 申请(专利权)人: 上海新微技术研发中心有限公司
主分类号: H01L43/08 分类号: H01L43/08;H01L43/10;H01L27/22
代理公司: 苏州国卓知识产权代理有限公司 32331 代理人: 明志会
地址: 201800 上*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 磁存储器
【权利要求书】:

1.一种磁存储器件,包括

固定层、通道隔离层、自由层;

所述通道隔离层位于所述固定层和所述自由层之间;

其特征在于,

还包括非磁性层,所述非磁性层位于所述自由层上,所述非磁性层与所述自由层材料不相同。

2.根据权利要求1所述的磁存储器件,其特征在于,所述非磁性层材料为镁、钛、铬、铜氧/氮化物中的至少一种。

3.根据权利要求1所述的磁存储器件,其特征在于,所述自由层具有相对的第一面和第二面,所述第二面较所述第一面远离所述通道隔离层,在所述第一面与所述通道隔离层中间有非磁性薄膜层。

4.根据权利要求1所述的磁存储器件,其特征在于,所述固定层和所述自由层为CoFe、NiFe、CoFeB、CoFeCr、CoFePt、CoFePd、CoFeTb、CoFeGd或CoFeNi中的至少一种。

5.根据权利要求1所述的磁存储器件,其特征在于,还包括第一电极和第二电极;所述第一电极位于所述固定层下方,所述第二电极位于所述自由层上方。

6.根据权利要求1所述的磁存储器件,其特征在于,还包括半导体器件,所述半导体器件与所述固定层电连接。

7.根据权利要求1所述的磁存储器件,其特征在于,还包括衬底,所述衬底位于所述固定层下方。

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