[实用新型]一种半导体纯水处理系统

说明书

本实用新型提供了一种半导体纯水处理系统，包括反应罐组、气举多介质过滤器组、气举活性炭过滤器组、紫外过滤装置、一级阳离子树脂交换装置、一级阴离子树脂交换装置、脱气塔组、反渗透装置、二级阳离子交换装置、二级阴离子交换装置及混合离子交换器，所述反应罐组的前端接入生产废水，后端与气举多介质过滤器组连接，所述气举多介质过滤器组、气举活性炭过滤器组、紫外过滤装置、一级阳离子树脂交换装置、一级阴离子树脂交换装置、脱气塔组、反渗透装置、二级阳离子交换装置、二级阴离子交换装置及混合离子交换器依次连接。

技术领域

本实用新型涉及一种水处理技术技术，特别是一种半导体纯水处理系统。

背景技术

化学机械研磨是半导体行业集成电路板制作过程中晶圆全面平坦化的关键技术，在晶圆研磨后的后续过程中使用超纯水对其进行清洗产生大量的研磨废水，此类废水中含有高浓度以各种状态存在的微小的研磨含硅颗粒物、化学药剂、超纯水以及金属离子物质，特别的含有砷元素，该废水的危害性是显而易见的，在当今水源污染破坏情况日益加剧的情况下，响应节能减排要求，如何利用此类废水水质进行充分合理有效的深度回用，缓解水资源匮乏成为一个比较急迫的课题。

在现有的技术中，例如专利号为：“CN201020123520.9”提供了一种半导体行业研磨废水回用为超纯水的处理系统，它包括彼此之间通过连接管路依次串联相连的研磨废水水箱、膜生物反应器、离子交换系统、清水箱、超滤系统、紫外线消毒系统、一级反渗透系统、脱气装置、二级反渗透系统、中间水箱、连续电去离子系统和产水箱，膜生物反应器的浓水出口通过第一浓水管路与污泥处理系统的浓水进水口相连，污泥处理系统的水出口通过出水管与研磨废水水箱的进水口相连并且其污泥排出口与污泥管线相连，所述的离子交换系统连接有再生系统，膜生物反应器的清水出水口通过出水管线与清水箱的进水口相连，在所述的紫外线消毒系统和一级反渗透系统之间的连接管路上通过加药管线连接有加药系统并装有第一反渗透进水泵，在所述的脱气装置和二级反渗透系统之间的连接管路上装有第二反渗透进水泵，二级反渗透系统的浓水出口通过第二浓水管路与超滤系统的进水口相连，中间水箱的进水口通过中间水管路与脱气装置的出水口相连，在所述的中间水箱和连续电去离子系统之间的连接管路上装有连续电去离子系统进水高压泵。

又如专利号为：“CN200420094558.2” 公开了一种发电机定冷水处理装置，它包括阳离子交换器、阴离子交换器 和微滤装置，其特征在于它还包括一个连接在发电机定冷水箱与微滤装 置之间的膜脱气装置；所述的阴离子交换器为OH型阴离子交换器；所述 的阳离子交换器为Na型阳离子交换器和H型阳离子交换器，并联设置。

上述公开的文件对对阴、阳离子有效的去除。尽管如此，在上述的两份文献中，特别是专利号为：“CN201020123520.9”的文献中，其在过滤时，由于在前期的加药反应中在废水中产生了大量的絮凝物质、残留药物、颗粒杂质、污泥以及金属等，经过多级过滤不能进行有效的除尽。

实用新型内容

为了解决上述技术问题，本实用新型的主要目的是提供一种半导体纯水处理系统。

其技术方案是：

一种半导体纯水处理系统，包括反应罐组、气举多介质过滤器组、气举活性炭过滤器组、紫外过滤装置、一级阳离子树脂交换装置、一级阴离子树脂交换装置、脱气塔组、反渗透装置、二级阳离子交换装置、二级阴离子交换装置及混合离子交换器，所述反应罐组的前端接入生产废水，后端与气举多介质过滤器组连接，所述气举多介质过滤器组、气举活性炭过滤器组、紫外过滤装置、一级阳离子树脂交换装置、一级阴离子树脂交换装置、脱气塔组、反渗透装置、二级阳离子交换装置、二级阴离子交换装置及混合离子交换器依次连接。

进一步地，所述气举多介质过滤器组包括并联设置的多介质过滤器A和多介质过滤器B，所述多介质过滤器A和多介质过滤器B处设置有第一高压风机，第一高压风机通过第一气举阀门与所述多介质过滤器A和多介质过滤器B分别连接。