[实用新型]陶瓷盘清洗装置

说明书

本实用新型涉及一种陶瓷盘清洗装置，包括清洗槽、轨道及清洗机械手，清洗槽包括多个用于垂直放置陶瓷盘的超声波放置槽，清洗机械手设置在轨道上并可沿轨道上下升降或左右移动，用于送入或取出清洗槽内的陶瓷盘，清洗机械手包括升降动力件、升降导轨、移动托架及托块，移动托架设置在升降导轨上，升降动力件与移动托架连接，托块为一对，两托块固定在移动托架底端，两托块之间形成用于垂直托起陶瓷盘边缘并避免其掉落的通道。该陶瓷盘清洗装置能够自动抓取或存放陶瓷盘，实现陶瓷盘的垂直清洗，清洗效率较高，清洗后由于重力作用，杂质能自动从陶瓷盘表面脱落，从而保证了产品质量。

技术领域

本实用新型涉及电子产品加工技术领域，尤其涉及一种陶瓷盘清洗装置。

背景技术

中国半导体市场装机量需求增长迅猛，劳动力短缺、人工成本不断攀升，导致厂商对自动化设备需求提升，对降低生产成本、提高产品良率有着显著的效果。

现有的晶圆片(蓝宝石片、硅片等)在进行加工时需要进行多道工序，如清洗、涂胶、贴片、铲片、存放等。晶圆片在贴片前需要对陶瓷盘进行清洗，现有技术中一般都是采用超声波清洗。清洗时，陶瓷盘水平进入清洗装置内进行清洗，然而由于陶瓷盘尺寸较大，水平清洗需要占用较大的空间，因此，现有的陶瓷盘超声波清洗设备的结构较为复杂，清洗效率较低，且清洗后陶瓷盘上表面依然会存有少量杂物或液体。

实用新型内容

为了克服现有技术的缺点，本实用新型提供一种占地面积小、清洗效率高、清洗效果好的陶瓷盘清洗装置。

本实用新型是通过如下技术方案实现的：一种陶瓷盘清洗装置，包括清洗槽、轨道及清洗机械手，所述清洗槽具有多个，用于清洗陶瓷盘，所述清洗机械手设置在轨道上并可沿轨道上下升降或左右移动，用于送入或取出清洗槽内的陶瓷盘，清洗机械手包括升降动力件、升降导轨、移动托架及托块，所述移动托架设置在升降导轨上，所述升降动力件与移动托架连接，所述托块为一对，两托块固定在移动托架底端，两托块之间形成用于垂直托起陶瓷盘边缘并避免其掉落的通道。

由于陶瓷盘首先需要送入清洗槽内进行清洗，而清洗完成的陶瓷盘需要从清洗槽内取出送入下一工位，为了保证清洗效率，所述轨道上设置有两组清洗机械手。

为了能够垂直托起陶瓷盘，并避免其掉落，所述托块上开设有可使陶瓷盘边缘嵌入的弧形槽。

为了感应移动托架上是否有陶瓷盘，移动托架一侧设置有侧挡杆，所述侧挡杆底端固定有用于感应陶瓷盘的感应器。

为了保证清洗时的稳定性，所述清洗槽内设置有可使陶瓷盘垂直插入的嵌入式托架。

本实用新型的有益效果是：该陶瓷盘清洗装置能够自动抓取或存放陶瓷盘，实现陶瓷盘的垂直清洗，清洗效率较高，清洗后由于重力作用，杂质能自动从陶瓷盘表面脱落，从而保证了产品质量。

附图说明

图1为本实用新型的陶瓷盘清洗装置的立体结构示意图；

图2为本实用新型的移动托架的结构示意图；

图3为本实用新型的清洗槽的结构示意图。

具体实施方式

下面结合附图对本实用新型的较佳实施例进行详细阐述，以使本实用新型的优点和特征能更易被本领域人员理解，从而对本实用新型的保护范围做出更为清楚明确的界定。