[实用新型]一种改良型氧化沟污水生化处理系统有效
申请号: | 201921324252.4 | 申请日: | 2019-08-15 |
公开(公告)号: | CN210595457U | 公开(公告)日: | 2020-05-22 |
发明(设计)人: | 陆侨治;吴益辉 | 申请(专利权)人: | 浙江海牛环境科技股份有限公司 |
主分类号: | C02F3/30 | 分类号: | C02F3/30;C02F101/16 |
代理公司: | 杭州华知专利事务所(普通合伙) 33235 | 代理人: | 杨秀芳 |
地址: | 311121 浙江省杭州市*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 改良 氧化 污水 生化 处理 系统 | ||
1.一种改良型氧化沟污水生化处理系统,包括右侧均布置有曝气装置的A氧化沟(1)和B氧化沟(2),所述A氧化沟(1)内的曝气装置和B氧化沟(2)内的曝气装置分别连接有第一曝气风机(23)和第二曝气风机(24),其特征在于:所述A氧化沟(1)和B氧化沟(2)并列设置,且通过中间共用的隔离墙(3)隔开;所述隔离墙(3)左端的侧壁上开设有连通所述A氧化沟(1)和B氧化沟(2)的连通口(4);
所述A氧化沟(1)内右侧安装有第一氨氮在线监测仪表(5);所述B氧化沟(2)内右侧安装有第二氨氮在线监测仪表(6),左侧安装有硝氮在线监测仪表(7);该系统还包括厌氧选菌池(8)、装有碳源的碳源储罐(9)和装有PAC溶液的PAC储罐(10),所述碳源储罐(9)通过碳源投加管(11)与所述B氧化沟(2)内左侧相连通,所述碳源投加管(11)上依次设有第一流量调节阀(12)和第一流量计(13),所述第一流量调节阀(12)设在所述碳源储罐(9)和第一流量计(13)之间;
所述厌氧选菌池(8)一侧连有进水泵(14),另一侧通过第一进污管(15)和第二进污管(16)分别与所述A氧化沟(1)右侧和B氧化沟(2)右侧连通;
所述B氧化沟(2)右端通过第一排污管(17)与二沉池(18)连通;
所述PAC储罐(10)通过PAC投加管(19)与所述第一排污管(17)连通,所述PAC投加管(19)上依次设有第二流量调节阀(20)和第二流量计(21),所述第二流量调节阀(20)设在所述PAC储罐(10)和第二流量计(21)之间;
所述第一排污管(17)上安装有总磷在线监测仪表(22),所述总磷在线监测仪表(22)设置在所述PAC投加管(19)与所述B氧化沟(2)之间;
所述第一氨氮在线监测仪表(5)、第二氨氮在线监测仪表(6)、硝氮在线监测仪表(7)、总磷在线检测仪表(22)、第一流量调节阀(12)、第一流量计(13)、第一曝气风机(23)、第二曝气风机(24)和进水泵(14)均分别与PLC控制器电性连接。
2.根据权利要求1所述的一种改良型氧化沟污水生化处理系统,其特征在于:所述第一进污管(15)上依次设有第三流量调节阀(25)和第三流量计(26),所述第三流量计(26)设在所述第三流量调节阀(25)和所述A氧化沟(1)之间;所述第二进污管(16)上依次设有第四流量调节阀(27)和第四流量计(28),所述第四流量计(28)设在所述第四流量调节阀(27)和所述B氧化沟(2)之间;所述第三流量调节阀(25)、第三流量计(26)、第四流量调节阀(27)和第四流量计(28)均分别与所述PLC控制器电性连接。
3.根据权利要求1所述的一种改良型氧化沟污水生化处理系统,其特征在于:所述二沉池(18)底部与所述厌氧选菌池(8)之间通过回流管(29)连通,所述回流管(29)上依次设有回流泵(30)和第五流量调节阀(31);所述回流管(29)上还设有用于排放所述二沉池(18)内多余污泥的回流支管(32),所述回流支管(32)上均设置有第六流量调节阀(33);所述回流泵(30)、第五流量调节阀(31)和所述第六流量调节阀(33)均分别与所述PLC控制器电性连接。
4.根据权利要求1所述的一种改良型氧化沟污水生化处理系统,其特征在于:所述B氧化沟(2)右端设有第一堰门(34),所述第一排污管(17)一端与所述二沉池(18)连通,另一端从所述第一堰门(34)的上部穿过与所述B氧化沟(2)连通。
5.根据权利要求1或4所述的一种改良型氧化沟污水生化处理系统,其特征在于:所述A氧化沟(1)右端设有第二堰门(35),所述第二堰门(35)与所述第一排污管(17)之间连通有第二排污管(36),所述第二排污管(36)一端从所述第二堰门(35)的上部穿过并与所述A氧化沟(1)连通,另一端连通并固定在所述B氧化沟(2)和PAC投加管(19)之间的第一排污管(17)上。
6.根据权利要求1所述的一种改良型氧化沟污水生化处理系统,其特征在于:所述A氧化沟(1)内设有曝气装置区域的面积与所述A氧化沟(1)的总面积比为2:3;所述B氧化沟(2)内设有曝气装置区域的面积与所述B氧化沟(2)的总面积比为1:3。
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