[实用新型]电解法制高纯铟铟片清洗装置

权利要求书

1.一种电解法制高纯铟铟片清洗装置，其特征在于：包括设有清洗箱的机架，一根由第一电动机驱动的传送带从所述清洗箱一端的侧壁穿过并从另一端的侧壁伸出，所述清洗箱于所述传送带上行部分的上方设有多个辊刷，所述辊刷包括设有刷滚的转轴，所述转轴通过轴承座固定在高度调节器的活动端，所述高度调节器的固定端固定在所述机架上；所述清洗箱于所述辊刷的上方设有多个辊刷喷嘴；所述清洗箱于所述传送带上行部分的每个所述辊刷的下方均设有多个支撑辊；所述清洗箱于传送带的下方设有集水箱。

2.根据权利要求1所述的电解法制高纯铟铟片清洗装置，其特征在于：所述高度调节器包括顶部设有轴承座安装板的升降丝杆，所述升降丝杆通过外螺纹穿装在涡轮的中心螺纹孔上，所述涡轮与涡杆啮合连接，所述涡杆套装在手柄轴上，所述手柄轴于一端设有手柄。

3.根据权利要求1或2所述的电解法制高纯铟铟片清洗装置，其特征在于：所述集水箱连接有排水管，所述排水管的出口设在所述储水箱上部的过滤网的上方，所述储水箱于进水口处设有水质过滤器；所述储水箱连接有循环水泵，所述循环水泵通过设有水压力调节阀的进水管与所述辊刷喷嘴连接。

4.根据权利要求3所述的电解法制高纯铟铟片清洗装置，其特征在于：所述传送带通过皮带传动与所述第一电动机连接，所述第一电动机固定在机架上。

5.根据权利要求4所述的电解法制高纯铟铟片清洗装置，其特征在于：每个所述辊刷通过皮带传动与一个变频电机连接。

6.根据权利要求5所述的电解法制高纯铟铟片清洗装置，其特征在于：在所述清洗箱的顶部设有活动盖板。