[实用新型]电解法制高纯铟残阳板清洗装置

权利要求书

1.一种电解法制高纯铟残阳板清洗装置，其特征在于：包括机架，从所述机架的一端至另一端设有依次相邻接的入板段、清洗室、冲洗室和出板段，在所述出板段与所述入板段上均设有输送辊；所述清洗室具有与所述入板段的输送辊相邻接的多对压送辊组，所述压送辊组具有呈上下设置的上压送辊和下压送辊，所述机架于近所述上压送辊处间隔设有多个上辊刷，所述机架于近所述下压送辊处间隔设有多个下辊刷，所述机架于近每个所述上辊刷处及所述下辊刷处均至少设有一个辊刷喷嘴；冲洗室具有设在所述压送辊组与所述出板段的输送辊之间的冲洗输送辊组，所述冲洗输送辊组具有呈上下设置的上冲洗输送辊和下冲洗输送辊；所述机架于所述上冲洗输送辊的上方和所述下冲洗输送辊的下方均设有多个冲洗喷嘴。

2.根据权利要求1所述的电解法制高纯铟残阳板清洗装置，其特征在于：多个所述下辊刷与多个所述上辊刷呈交错设置，每个所述下辊刷下方设有一个与所述下压送辊平齐的下辅助输送辊，每个所述下辊刷的上方设有一个与所述上压送辊平齐的上辅助输送辊。

3.根据权利要求1所述的电解法制高纯铟残阳板清洗装置，其特征在于：所述下压送辊与所述入板段的输送辊呈平齐设置，所述下冲洗输送辊与所述出板段的输送辊呈平齐设置，所述下冲洗输送辊与所述下压送辊呈平齐设置。

4.根据权利要求1所述的电解法制高纯铟残阳板清洗装置，其特征在于：所述机架于所述清洗室的所述压送辊组下方设有第一集水槽，所述机架于所述冲洗室的所述冲洗输送辊组下方设有第二集水槽。

5.根据权利要求1或2或3或4所述的电解法制高纯铟残阳板清洗装置，其特征在于：所述清洗室于近所述入板段的侧壁上设有进板口，在所述清洗室与所述冲洗室之间的侧壁上设有过渡口，所述冲洗室于近所述出板段的侧壁上设有出板口，所述出板口、所述进板口和所述过渡口均为短边位于高度方向的矩形。

6.根据权利要求5所述的电解法制高纯铟残阳板清洗装置，其特征在于：近所述上辊刷处的所述辊刷喷嘴的喷口朝向所述上辊刷，近所述下辊刷处的所述辊刷喷嘴的喷口朝向所述下辊刷；位于所述上冲洗输送辊的上方的多个所述冲洗喷嘴的喷口朝向所述上冲洗输送辊，位于所述下冲洗输送辊下方的所述冲洗喷嘴的喷口朝向所述下冲洗输送辊。

7.根据权利要求6所述的电解法制高纯铟残阳板清洗装置，其特征在于：所述上压送辊、所述下压送辊、所述上冲洗输送辊和所述下冲洗输送辊均为橡胶辊，所述上冲洗输送辊和所述下冲洗输送辊的硬度大于所述上压送辊和所述下压送辊的硬度。

8.根据权利要求7所述的电解法制高纯铟残阳板清洗装置，其特征在于：所述输送辊、所述压送辊组和所述冲洗输送辊组均由同步电机驱动呈同步旋转，所述上压送辊与所述下压送辊呈相向同步旋转，所述上冲洗输送辊与所述下冲洗输送辊呈相向同步旋转。