[实用新型]一种高垄地膜的种植口覆盖结构有效
申请号: | 201921330054.9 | 申请日: | 2019-08-07 |
公开(公告)号: | CN211353339U | 公开(公告)日: | 2020-08-28 |
发明(设计)人: | 不公告发明人 | 申请(专利权)人: | 海南师范大学 |
主分类号: | A01G13/02 | 分类号: | A01G13/02 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 571158 海南省*** | 国省代码: | 海南;46 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 地膜 种植 覆盖 结构 | ||
1.一种高垄地膜的种植口覆盖结构,包括地膜(1),地膜种植口(4),其特征在于,所述一种高垄地膜的种植口覆盖结构还包括粗砂(2),圆颗粒(3),地膜种植口(4)位于地膜(1)的中央部位,粗砂(2)覆盖在地膜种植口(4)中的土壤的表面上,圆颗粒(3)覆盖在粗砂(2)上,圆颗粒(3)的直径D满足约束条件0.7厘米<D厘米<(M/2)厘米,其中M为地膜种植口(4)的线度值。
2.根据权利要求1所述的一种高垄地膜的种植口覆盖结构,其特征在于,在高温季节采用白色地膜(1)及圆颗粒(3),在低温季节采用黑色地膜(1)及圆颗粒(3)。
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