[实用新型]一种MO源瓶支架装置有效
申请号: | 201921330901.1 | 申请日: | 2019-08-16 |
公开(公告)号: | CN210560737U | 公开(公告)日: | 2020-05-19 |
发明(设计)人: | 施文贞 | 申请(专利权)人: | 福州中科光芯科技有限公司 |
主分类号: | C23C16/448 | 分类号: | C23C16/448;C23C16/18 |
代理公司: | 福州元创专利商标代理有限公司 35100 | 代理人: | 陆帅;蔡学俊 |
地址: | 350000 福建省福州市鼓楼*** | 国省代码: | 福建;35 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 mo 支架 装置 | ||
1.一种MO源瓶支架装置,其特征在于:包括支架框,支架框上设置有竖直截面形状为“L”字形的MO源瓶支撑座。
2.根据权利要求1所述的MO源瓶支架装置,其特征在于:MO源瓶支撑座包括水平的MO源瓶底座,MO源瓶底座旁垂直固设有MO源瓶对位块。
3.根据权利要求2所述的MO源瓶支架装置,其特征在于:支架框中间有2根支架圆杆,支架圆杆中间固定着MO源瓶底座。
4.根据权利要求2所述的MO源瓶支架装置,其特征在于:支架框、支架圆杆、MO源瓶底座以及MO源瓶对位块均由奥氏体不锈钢加工而成。
5.根据权利要求2所述的MO源瓶支架装置,其特征在于:支架框的长度为100mm、宽度为100mm、厚度为10mm、中间镂空区域为90mm×90mm;支架圆杆的长度为90mm、半径为3mm、相隔40mm;MO源瓶底座长度为50mm、宽度为40mm、厚度为7mm;MO源瓶对位块为梯形块,梯形上底宽5mm、下底宽20mm、长度为50mm、上底为倒圆角结构。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的