[实用新型]一种用于半导体凸点三维形貌扫描的测试装置有效

专利信息
申请号: 201921356414.2 申请日: 2019-08-21
公开(公告)号: CN210293105U 公开(公告)日: 2020-04-10
发明(设计)人: 王成迁 申请(专利权)人: 中国电子科技集团公司第五十八研究所
主分类号: G01B7/28 分类号: G01B7/28
代理公司: 无锡派尔特知识产权代理事务所(普通合伙) 32340 代理人: 杨立秋
地址: 214000 *** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 用于 半导体 三维 形貌 扫描 测试 装置
【权利要求书】:

1.一种用于半导体凸点三维形貌扫描的测试装置,其特征在于,包括:

施力装置(1),用于吸住待测封装体(2)并对其施加压力;

压电感应装置(3),位于所述封装体(2)底部并与其接触,用于检测所述封装体(2)的微凸点(21)。

2.如权利要求1所述的用于半导体凸点三维形貌扫描的测试装置,其特征在于,所述施力装置(1)包括依次相连的施力模块(11)、传力弹簧(12)和真空吸盘(13);其中,

所述真空吸盘(13)用于吸住所述封装体(2);

通过所述施力模块(11)施加压力使所述封装体(2)与所述压电感应装置(3)接触;并且施加的压力在1mN以上。

3.如权利要求1所述的用于半导体凸点三维形貌扫描的测试装置,其特征在于,所述封装体(2)包括基体(22)和生长在所述基体(22)上的微凸点(21);其中,

所述微凸点(21)包括锡球阵列、铜柱和锡银;

所述基体(22)包括硅基和树脂圆片。

4.如权利要求1所述的用于半导体凸点三维形貌扫描的测试装置,其特征在于,所述压电感应装置(3)包括依次设置的软垫(31)、压电陶瓷(32)和信息处理系统(33);

所述软垫(31)用于标定每个微凸点(21)的位置坐标,所述软垫(31)表面设有二维像素点网格阵列;

所述压电陶瓷(32)将感应到的压力信号传送至所述信息处理系统(33);

所述信息处理系统(33)将压力信号转变为数字信号。

5.如权利要求4所述的用于半导体凸点三维形貌扫描的测试装置,其特征在于,单个网格的长和宽都大于0.1μm。

6.如权利要求4所述的用于半导体凸点三维形貌扫描的测试装置,其特征在于,所述信息处理系统(33)包括模数转换器。

7.如权利要求1所述的用于半导体凸点三维形貌扫描的测试装置,其特征在于,所述用于半导体凸点三维形貌扫描的测试装置还包括显示装置(4),所述显示装置(4)通过传输数据线与所述压电感应装置(3)相连。

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