[实用新型]一种干簧管继电器触点用多层膜结构有效
| 申请号： | 201921369626.4 | 申请日： | 2019-08-22 |
| 公开（公告）号： | CN212476871U | 公开（公告）日： | 2021-02-05 |
| 发明（设计）人： | 林成福;渠帅 | 申请（专利权）人： | 沈阳科友真空技术有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/16;C23C14/06;H01H49/00 |
| 代理公司： | 北京弘权知识产权代理事务所(普通合伙) 11363 | 代理人： | 逯长明;许伟群 |
| 地址： | 110000 辽宁*** | 国省代码： | 辽宁;21 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 干簧管 继电器 触点 多层 膜结构 | ||
【权利要求书】：
1.一种干簧管继电器触点用多层膜结构，其特征在于，包括：基体(7)、沉积在所述基体(7)表面的钼底层(71)、沉积在所述钼底层(71)表面的渐变涂层(72)、沉积在所述渐变涂层(72)表面的硬质涂层(73)以及沉积在所述硬质涂层(73)表面的纳米涂层(74)；
所述硬质涂层(73)的硬度为15GPa～30GPa；
所述纳米涂层(74)的硬度为5GPa～7GPa；
所述基体(7)为铁镍合金基体；
所述渐变涂层(72)为碳化钼渐变涂层、氮化钼渐变涂层、碳化钼钨渐变涂层或氮化钼钨渐变涂层中的一种；
所述硬质涂层(73)与所述渐变涂层(72)相对应，所述硬质涂层为碳化钼层、氮化钼层、碳化钼钨层或氮化钼钨层中的一种；
所述纳米涂层(74)为钼纳米涂层。
2.根据权利要求1所述干簧管继电器触点用多层膜结构，其特征在于，所述钼底层(71)的厚度为0.5μm～1μm。
3.根据权利要求1所述干簧管继电器触点用多层膜结构，其特征在于，所述渐变涂层(72)的厚度为2μm～3μm。
4.根据权利要求1所述干簧管继电器触点用多层膜结构，其特征在于，所述硬质涂层(73)的厚度为13μm～14μm。
5.根据权利要求1所述干簧管继电器触点用多层膜结构，其特征在于，所述纳米涂层(74)的厚度为80nm～120nm。
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