[实用新型]一种光束测量装置

说明书

本实用新型公开了一种光束测量装置，包括待测光源；第一成像组件，所述第一成像组件为面阵探测器，且直接接收待测光源的一定出射角度内的光线；活动支架，活动支架相对待测光源设置，所述第一成像组件设置于所述活动支架上，其中，所述第一成像组件在所述活动支架的控制下在二维平面内进行移动。本实用新型公开一种光束测量装置，通过直接接收待测光源一定出射角度内的光线，不仅可对光源的光线结构、均匀性、光强分布进行测量，还可以对待测光源中各出射角度内的光线的光强和出射角度进行测量，同时也避免了现有技术中使用匀光膜而导致光线投射到匀光膜时形成光斑边界向外扩散，而导致测量结果受影响的问题，具有显著的有益效果。

技术领域

本实用新型涉及光电测试领域，具体涉及一种光束测量装置。

背景技术

3D结构光的光线具有一定结构特征，一般呈点、线或网格分布，投影至被测物体表面后，经红外摄像头采集，来获得被测物体的三维结构信息，因此，3D结构光在生物识别、机器视觉等领域的应用越来越广泛。结构光光源是实现其功能的重要组件，光源的辐射功率、光谱以及光束质量的评价分析对于其应用效果十分重要，直接关系到能否识别以及识别的准确度。

对于矩阵光测量，一般需要一套甚至两套装置对其功率、光谱进行测量，另一套装置对光束质量进行测量。而且，对于光束质量的测量，主要是通过将光束投影到匀光膜上，通过对匀光膜进行成像，得到投影光束的结构和光斑强度分布信息，进而测量光斑尺寸。但激光入射匀光膜后，在匀光膜内横向散射，导致光斑变形，对光斑尺寸测量造成较大误差。

综上，现有技术对于3D结构光光源的测量功能较为单一，若需获得多类测试数据，相应的设备也较为复杂；且测试过程中易受匀光膜影响产生较大的误差，影响测量结果。为了更好提升3D结构光光源的测量效率以及测量精确性，以上技术问题亟待解决。

实用新型内容

针对现有技术的不足，本实用新型提供一种光束测量装置，旨在解决现有技术无法一次性测量结构光光谱和光束特性，以及测量矩阵光受投射匀光膜影响的技术问题。

本实用新型公开了一种光束测量装置，包括待测光源；第一成像组件，所述第一成像组件为面阵探测器，且直接接收来自待测光源的一定出射角度内的光线；活动支架，活动支架相对待测光源设置，所述第一成像组件设置于所述活动支架上，其中，所述第一成像组件在所述活动支架的控制下在二维平面内进行移动。本实用新型通过设置第一成像组件直接接收待测光源的单一光线，并且第一成像组件可通过活动支架在二维平面内移动逐一接收待测光源光束中的若干光线。不仅可以对待测光源光线结构、均匀性、光强分布进行测量，还可以对光束中各光线的光强和出射角度进行测量，同时也避免了现有技术中使用匀光膜而导致激光光斑边界扩散，而导致测量结果受影响的问题。

需要说明的是，本申请文件中提到的一定角度内的出射光线直接入射至第一成像组件，投影图案可以是圆形或者线形，或者其他特定形状的光斑。

在一些可选的实施例中，还包括投影屏和第二成像组件。投影屏设置于待测光源的出光面，第二成像组件接收反射自投影屏的光源。对待测光源的光线结构、整体均匀性、分布状况进行测量。

在一些可选的实施中，所述第二成像组件设置于所述待测光源附近。

可选的，待测光源与第二成像装置以投射屏的中心法线为对称轴，对称设置。对称的设置方式可以避免出射光线对第二成像装置的接收产生影响，避免测量结果的误差。其中，待测光源和第二成像装置的夹角越小，成像畸变越小。

在一些可选的实施例中，所述第二成像组件包括光学成像元件和面阵探测器。待测光源通过光学成像元件，成像在面阵探测器的入光面，从而对待测光源的整体特性，包括光束大小、光线结构、均匀性等特性进行测量。可选的，光学成像元件为透镜，但不限于此。

在一些可选的实施例中，所述投影屏为中性漫反射屏。