[实用新型]晶圆卡盘的清洁装置、光刻机台

权利要求书

1.一种晶圆卡盘的清洁装置，其特征在于，包括：

密闭腔室，用于放置待清洁的晶圆卡盘；

气流输入单元，用于向所述密闭腔室内通入吹扫气流；

位于所述密闭腔室内的气流调整单元，所述气流调整单元设置于所述气流输入单元与所述晶圆卡盘之间，用于调整朝向晶圆卡盘表面的气流吹扫角度；

气流输出单元，用于排出所述密闭腔室内的气流。

2.根据权利要求1所述的晶圆卡盘的清洁装置，其特征在于，还包括：检测单元，与所述气流调整单元和所述气流输入单元连接，用于检测所述晶圆卡盘表面的清洁情况，并根据所述清洁情况控制所述气流调整单元的气流吹扫角度以及所述气流输入单元的流量。

3.根据权利要求2所述的晶圆卡盘的清洁装置，其特征在于，所述检测单元包括水平传感器。

4.根据权利要求1所述的晶圆卡盘的清洁装置，其特征在于，还包括：过滤单元，设置于所述气流调整单元和所述气流输入单元之间，用于对输入密闭腔室内的吹扫气体进行过滤。

5.根据权利要求1所述的晶圆卡盘的清洁装置，其特征在于，所述气流调整单元包括一组可旋转的挡风板，所述挡风板与晶圆卡盘表面之间的夹角可在0°～-180°之间改变。

6.根据权利要求5所述的晶圆卡盘的清洁装置，其特征在于，所述气流调整单元包括位置固定的横梁以及位于所述横梁下方与所述横梁平行的拉杆，所述挡风板的上下端分别通过一转轴固定于所述横梁和拉杆上；所述气流调整单元还包括：挡风板驱动装置，用于驱动所述拉杆移动以带动所述挡风板旋转。

7.根据权利要求4所述的晶圆卡盘的清洁装置，其特征在于，还包括：气流均匀单元，设置于所述过滤单元与所述气流输入单元之间，用于使得经过所述过滤单元的气流分布均匀。

8.根据权利要求7所述的晶圆卡盘的清洁装置，其特征在于，所述气流均匀单元包括风扇，以及连接所述风扇的频率控制器。

9.一种光刻机台，其特征在于，包括如权利要求1至8中任一项所述的清洁装置。

10.根据权利要求9所述的光刻机台，其特征在于，所述至少一个气流输入单元连接至所述光刻机台的供气单元。