[实用新型]一种柔性透明导电膜

说明书

本实用新型提供了一种柔性透明导电膜，涉及电子器件技术领域；柔性透明导电膜包括基底与覆设在基底上的复合金属网，复合金属网为第一金属网与第二金属网的复合结构；本实用新型通过复合金属网的设计，解决传统的金属纳米线之间存在大量的结合点，电阻大易断裂，导电性及稳定性差的问题；本实用新型中复合金属网中的第一金属网与第二金属网一体水平相互连接，连接处无结合点，因此使得本实用新型的导电膜导电性更优良，能够实现导电膜在经过多次弯折后，其电阻值几乎保持不变，具有低成本、大面积、耐弯折、导电性优良的特点。

技术领域

本实用新型涉及电子器件领域，具体而言，涉及一种柔性透明导电膜。

背景技术

具有优异机械柔性的透明导电电极将成为下一代可穿戴光电子器件的重要部件，在发光器件，光伏电池，触摸屏面板等领域占据越来越重要的地位。锡掺杂氧化铟(ITO)由于其光学透明性，热、化学稳定性，器件兼容性以及发达的制造工艺，已成为学术界和工业界最广泛使用的透明导电膜材料。

尽管已经实现了ITO塑料薄膜的制备，但是因为ITO的脆性特性，它在各种可穿戴光电子器件的应用仍然很有限。此外，铟元素的高昂成本也使得该材料在未来的光电子产品应用中存在很多问题。ITO的潜在替代品包括碳纳米管(CNTs)，石墨烯，导电聚合物，金属纳米线(NWs)，金属网格和金属纳米网络等。尽管碳基TCE材料如CNTs，石墨烯和导电聚合物的表现远远超越ITO在灵活性方面，其固有的低导电性限制了其可用性。另一方面，诸如金属纳米线，金属网和金属纳米网等金属基导电膜表现出良好的光电性能。金属纳米线之间大量的结合点的存在，使得导电膜的阻值较大，限制了其在柔性电子领域的进一步应用。目前大多数的金属纳米网格以光刻技术加镀膜技术制备，光刻技术复杂，成本高，不利于大面积卷对卷生产。

因此，本实用新型提供一种基于激光切割胶体薄膜技术和胶体开裂技术生产制造的可控形貌并具有分级结构的柔性透明导电膜，使其具有低成本、大面积、耐弯折、导电性优良等特点。

实用新型内容

本实用新型目的在于提供一种提供可控形貌并具有分级结构的柔性透明导电膜。

一种柔性透明导电膜，包括基底与覆设在基底上的复合金属网。

进一步地，在本实用新型较佳的实施例中，所述复合金属网包括复合在一起的第一金属网和第二金属网，所述第一金属网和第二金属网的网格尺寸和金属线的宽度至少其一参数不同。

进一步地，在本实用新型较佳的实施例中，所述第一金属网的网格尺寸大于第二金属网的网格尺寸，且第二金属网形成于第一金属网的网格内。

进一步地，在本实用新型较佳的实施例中，所述第一金属网的金属线的宽度大于所述第二金属网的金属线的宽度。

进一步地，在本实用新型较佳的实施例中，所述第一金属网的金属线宽度为40μm-200μm，其长度为0.5cm-5cm，所述第二金属网的金属线宽度为1μm-5μm，其长度为5μm-50μm。

进一步地，在本实用新型较佳的实施例中，所述第一金属网的网格为六边形、四边形与三角形中的任意一种或者两种以上的任意组合。

进一步地，在本实用新型较佳的实施例中，所述基底为柔性薄膜。

进一步地，在本实用新型较佳的实施例中，所述柔性薄膜为高分子聚合物薄膜、植物纤维薄膜与金属箔片中的任意一种或两种以上的任意组合。

进一步地，在本实用新型较佳的实施例中，所述柔性透明导电膜方阻为1.36Ω/sq时透光率为81％。

有益效果：