[实用新型]微图文转印用层压装置有效
申请号: | 201921385375.9 | 申请日: | 2019-08-23 |
公开(公告)号: | CN210478059U | 公开(公告)日: | 2020-05-08 |
发明(设计)人: | 冯煜;周永南;袁顺年 | 申请(专利权)人: | 江阴通利光电科技有限公司 |
主分类号: | B32B37/10 | 分类号: | B32B37/10 |
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地址: | 214411 江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 图文 转印用 层压 装置 | ||
本实用新型涉及微图文转印用层压装置,包括装置主体和压盖,装置主体包括工作台面、若干组支撑脚、定位部件和压板,压盖包括压盖主体、若干气缸孔和硅胶垫,硅胶垫上表面设有若干气缸,在压盖主体的下沿边缘设有若干第一限位块和若干安装座内嵌槽,第一限位块设有插销孔;工作台面包括长方形滑槽、纵向滚珠丝杠滑道、横向滚珠丝杠安装孔、若干压盖安装座、抽真空孔;定位部件包括滑轨、横向滚珠丝杠、第二限位块、纵向滚珠丝杠滑槽、纵向滚珠丝杠、第一定位组件和第二定位组件;压板设有若干吸附孔。本实用新型实现了光掩模版和薄膜基板快速精准对位,解决了上盖合闭时对光掩模版和薄膜基板的边缘挤压及压合时因其受力不均而导致受损的问题。
技术领域
本实用新型涉及微图文转印设备技术领域,尤其涉及微图文转印用层压装置。
背景技术
随着科技的飞速发展,微图文转印技术被广泛用于电子元器件、高密度磁盘介质、防伪薄膜等领域,常用的微图转印文技术主要分为接触式光刻和非接触式光刻两种,其中,接触式光刻要求在曝光时将掩膜版压在衬底基片的光刻胶上,因此,需要用层压机进行对压。然而,现有的层压机进行对压操作时,常常难以将掩膜版和衬底基片进行精准对位,而且层压过程中容易因为受力过大或不均而对掩膜版和衬底基片造成损伤,且现有的层压装置的上盖呈翻转设计,在上盖与层压机主体合起来时,靠近上盖与层压机主体连接处的掩膜版和衬底基片会因挤压而变形毁损。
中国公开号为CN 208240707 U公开的层压装置,包括基板和顶板,所述基板的上端面设有第一层压凹槽,所述基板与所述顶板之间设有位于所述第一层压凹槽的外周的内密封垫和位于所述内密封垫外的外密封垫,所述基板、所述顶板、所述内密封垫与所述外密封垫构成密封腔,所述基板下端面设有与所述第一层压凹槽连通的第一抽真空孔以及与所述密封腔连通的第二抽真空孔;通过控制抽真空度来实现层压力度,保证层压效果,但是,此种层压装置没有定位部件,因此,对片材的对位比较困难,且容易在对压过程中产生移位现象,从而影响转印的效果,而且,没有解决对于顶板合闭时对片材边缘挤压而变形受损的问题。
因此,有必要对现有的层压装置进行改进,以解决上述问题。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供微图文转印用层压装置,以实现光掩模版和薄膜基板快速精准地对位,并解决了上盖合闭时对光掩模版和薄膜基板的边缘挤压而造成毁损以及压合过程中由于受力过大或受力不均而导致光掩模版和薄膜基板受损的问题。
为达到上述实用新型的目的,本实用新型提供的技术方案为:微图文转印用层压装置,包括装置主体和压盖,所述压盖可相对装置主体翻转135°,且压盖可停留在0°-135°之间的任意位置;所述装置主体包括工作台面、设置于工作台面底部两侧的若干组支撑脚、定位部件和压板;所述压盖包括压盖主体、设置在压盖主体上的若干气缸孔和硅胶垫,所述硅胶垫的厚度为1-2cm,在所述硅胶垫的上表面设有若干气缸,所述气缸的外直径与气缸孔的内直径相一致,所述硅胶垫设置在压盖主体的内表面,其上表面的气缸从气缸孔穿出,所述硅胶垫可在气缸的作用下脱离压盖主体;
在所述压盖主体的下沿边缘设有若干第一限位块和若干安装座内嵌槽,所述第一限位块与安装座内嵌槽交替设置,且所述第一限位块设有插销孔;
所述工作台面为上方敞口的长方体设计,包括设置于工作台面左、右两侧面内壁的长方形滑槽,内置于工作台面前侧面并与水平面相平行的纵向滚珠丝杠滑道,内置于工作台面右侧面的横向滚珠丝杠安装孔,设置在工作台面后侧面顶部的若干压盖安装座,以及内置于工作台面两侧面并贯通至长方形滑槽的抽真空孔;
所述工作台面和压盖通过液压装置相连,所述液压装置包括液压油缸和液压油杆,所述液压油缸的一端设置在工作台面的侧面上,另一端套接有液压油杆,所述液压油杆的另一端设置在压盖的侧面,所述液压油杆在液压油缸的作用下做匀速往复运动;
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