[实用新型]可大量制备均匀生长自支撑电极材料的简易装置

说明书

本实用新型专利公开了一种可大量制备均匀生长自支撑电极材料的简易装置。它主要包括螺杆和基底材料固定架，用镊子将处理好的基底材料移至基底材料固定架上；通过螺杆将基底材料固定架放入反应釜内衬底部，取下螺杆；加入生长自支撑材料所需要的液体样品，盖好水热反应釜釜盖,即可进行实验。本实用新型设计简单，无需对现有技术做进行修改就可应用于现有技术的反应釜中。

技术领域

本实用新型涉及一种可大量制备均匀生长自支撑电极材料的简易装置。

背景技术

锂离子电池在各类电子器件、电动汽车、航空航天等领域的实际应用中，面积比容量是一个至关重要的参数。在制作锂离子电池电极片的过程中通常是活性材料与导电剂及粘结剂均匀混合后，薄薄地涂覆在导电基底材料上，这导致了在电极中，活性材料所占比例及含量都比较低，从而影响电极整体的质量比容量和面积比容量。自支撑材料可以避免导电剂与粘结剂的使用，提高电池容量。但根据现有技术，在水热反应釜中生长自支撑材料，由于水热反应釜釜底面积有限，而每个纽扣电池电极片的面积是固定的，所以每一次制得的电极片的数量十分有限。将基底材料平放在反应釜中，液体药品与基底材料不充分接触不仅长不出正反面均匀的自支撑材料，而且液体药品得不到完全应用，浪费药品提高了实验成本。

实用新型内容

为了克服上述现有技术存在的缺点，本实用新型提供了一种可大量制备均匀生长自支撑电极材料的简易装置。该装置设计简单，无需对现有技术进行修改就可应用于现有技术的反应釜中。

本实用新型解决其技术问题所采取的技术方案：可大量制备均匀生长自支撑电极材料的简易装置包括：反应釜内衬、基底材料固定架和螺杆，基底材料固定架通过螺杆置于反应釜内衬的底部，基底材料固定架上设置有凹槽，基底材料置于凹槽内。

优选地，基底材料固定架的凹槽宽度为0.5mm～22mm。

优选地，基底材料固定架的直径为30mm～600mm。

本实用新型的有益效果是：(1)本实用性新专利通过架构基底材料，可以使基底材料与金属盐溶液充分接触，使得生长的自支撑材料表面均匀；(2) 本实用新型通过架构基底材料，使原本平躺在反应釜内的材料竖立起来，节约空间，可以使材料翻倍生长。例如，现有技术的水热反应没有基底材料固定架，在直径为50mm的反应釜内最多生长0.8mm*1.3mm的泡沫镍片8个，而采用本发明的装置可以在直径为50mm的反应釜内均匀生长32个片，是现有技术的4倍；(3)本实用新型通过设计具有凹槽结构的基底材料固定架，使金属盐溶液充分利用，节约实验成本；(4)本实用新型基底材料固定架的凹槽设计，只需一次实验就可以在不同种类的基底材料上生长同一种金属盐晶体。每一个凹槽界限明显，可以保证基底材料在反应过程中不会倒下。

本实用新型设计简单，制造成本低，可以工业化生产。

下面结合附图说明和具体实施方式对本实用新型进行进一步说明。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单的介绍。

图1为螺杆和基底材料固定架结合后的整体结构示意图；

图2为螺杆和基底材料固定架结合后的整体剖面示意图；

图3为单独基底材料固定架放入反应釜筒体内的剖面图；

图4为基底材料固定架的整体示意图；

其中：

1-螺杆；2-基底材料固定架；3-反应釜内衬(现有技术)。

具体实施方式

为使本实用新型实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚完整地描述。