[实用新型]纯化器连接结构

说明书

本实用新型公开了一种用于锗硅外延设备纯化器柜内的纯化器连接结构，包括：第一～第十一气路、第一～第二十六阀、第一～第三纯化器、第一～第四进气口、第一～第三出气口、文丘里管和放气阀。本实用新型提供的纯化器连接结构，能简化纯化器更换所需要的操作步骤和所需要人工，并且通过阀体开关状态的配合能够实现纯化器更换后的管路测漏。在纯化器粘帖贴片式热电偶增加了对纯化器温度的检测，能避免损坏纯化器。并且，在所有阀体均采用电控阀的情况下，能够进一步减少纯化器更换、测漏和纯化器温度检测的人为工作量，通过逻辑电路能够实现纯化器更换、测漏和纯化器温度检测，可避免因人为纯化操作潜在错误，大大提供生产效率。

技术领域

本实用新型涉及半导体制造领域，特别是涉及一种用于锗硅外延设备纯化器柜内的纯化器连接结构。

背景技术

纯化器利用物理或化学的方法除去气体中杂质的设备，纯化器是半导体生产工艺中常用的设备，半导体生产中的重要设备之一。纯化设备使用一段时间后会出现杂质，存在更换纯化器的需求，并且更换纯化器后还需要对设备进行测漏才能再次进行生产。现有锗硅外延设备纯化器柜在自动化功能上只具备自动吹扫功能，并且现有设备的连接结构不适用于纯化器纯化更换及纯化器纯化更换后的测漏，需要操作的阀门众多，程序繁琐，不利于操作。

并且，气体纯化器工作温度在首次通入特气时因化学反应放热严重，如过热不仅会烧毁纯化器，还会污染管路造成严重经济损失。人工进行纯化器纯化需操作开关阀门50次以上，并随时注意纯化器表面温度，未及时关闭进气阀门，容易操作失误损毁设备。

实用新型内容

本实用新型要解决的技术问题是提供一种用于锗硅外延设备纯化器柜内，便于进行纯化器更换及纯化器更换后管路测漏的纯化器连接结构。

本实用新型还提供了一种用于锗硅外延设备纯化器柜内能够监测纯化器温度避免误操作的纯化器连接结构。

为解决上述技术问题，本实用新型提供用于锗硅外延设备纯化器柜内的纯化器连接结构，包括：

第一气路，其第一端连接第一进气口IN1，第一进气口IN1后顺序连接有第一阀M1、第一纯化器PF1、放气阀和第二阀AV1，其第二端连接第一气路节点A；

第二气路，其第一端连接第一出气口OUT1，第一出气口OUT1后顺序连接有第三阀M3和第四阀AV4，其第二端连接第二气路节点B；

第三气路，其第一端连接第三气路节点C，其第一端后顺序连接有第五阀AV3和第六阀AV7，其第二端连接第二气路节点B；

第四气路，其第一端连接第二进气口IN2，第二进气口IN2后顺序连接有第七阀M4、第八阀AV2、第九阀AV5、第二纯化器PF2、第十阀AV6、第十一阀AV8和第十二阀AV9，其第二端连接第一气路节点A；其中，第十阀AV6和第十一阀AV8之间的气路还连接第二气路节点B；

第五气路，其第一端连接第二出气口OUT2，第二出气口OUT2后顺序连接有第十三阀M5和第十四阀AV13,其第二端连接第四气路节点D；

第六气路，其第一端连接第三气路节点C，其第一端后顺序连接有第十五阀AV12和第十六阀AV14，其第二端连接第四气路节点D；

第七气路，其第一端连接第三进气口IN3，第三进气口IN3后顺序连接有第十七阀M6、第十八阀AV11、第十九阀AV15、第二十阀M7、第二十一阀M8、第二十二阀AV16、第二十三阀AV17和第二十四阀AV18，其第二端连接第一气路节点A；其中，第二十二阀AV16和第二十三阀AV17之间的气路还连接第四气路节点D；

第八气路，其第一端连接在第五阀AV3和第六阀AV7之间，其第二端连接在第八阀AV2和第九阀AV5之间；