[实用新型]光学成像膜有效

专利信息
申请号: 201921395387.X 申请日: 2019-08-26
公开(公告)号: CN210401720U 公开(公告)日: 2020-04-24
发明(设计)人: 郑伟伟;申溯;张海英 申请(专利权)人: 昇印光电(昆山)股份有限公司
主分类号: G02B3/00 分类号: G02B3/00;G02B3/08
代理公司: 北京汇思诚业知识产权代理有限公司 11444 代理人: 王刚;龚敏
地址: 215316 江苏省苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 光学 成像
【权利要求书】:

1.一种光学成像膜,其特征在于,包括:

成像层,所述成像层包括多个呈周期T1分布的成像结构;

微图文层,所述微图文层包括多个呈周期T1分布的微图文,且所述成像结构与所述微图文对应设置;

其中,每个所述微图文对应一个原始图文,多个所述原始图文呈周期T2分布,且T1≠T2;

所述原始图文分布超过所述微图文的周期区域,且所述微图文为所述原始图文对应所述周期区域的全部分或一部分;

各所述微图文能够组成一个完整的原始图文,以使所述光学成像膜形成一个具有放大效果的且与所述原始图文形状一致的目标图像。

2.根据权利要求1所述的光学成像膜,其特征在于,所述微图文为所述原始图文的部分图文;

所述原始图文N等分,且各所述微图文均为所述原始图文的1/N。

3.根据权利要求1所述的光学成像膜,其特征在于,所述微图文为所述原始图文的部分图文;

所述原始图文N等分,且各所述微图文中,至少部分所述微图文大于所述原始图文的1/N。

4.根据权利要求1所述的光学成像膜,其特征在于,所述微图文包括印刷图文、浮雕图文、填充图文中的一种或多种。

5.根据权利要求1所述的光学成像膜,其特征在于,所述成像结构为柱面镜、微透镜或菲涅尔透镜中的一种或多种。

6.根据权利要求1所述的光学成像膜,其特征在于,所述光学成像膜还包括基材层,所述成像层和所述微图文层分别设置于所述基材层的两侧。

7.根据权利要求6所述的光学成像膜,其特征在于,所述微图文层采用丝印或刻蚀的方式设置于所述基材层的背离所述成像层的一侧。

8.根据权利要求6所述的光学成像膜,其特征在于,所述基材层的背离所述成像层的一侧设置有凹陷部;

所述凹陷部形成所述微图文层,且在所述凹陷部内填充有色填料。

9.根据权利要求6所述的光学成像膜,其特征在于,所述成像层由UV胶压印固化设置于所述基材层的背离所述微图文层的一侧。

10.根据权利要求6所述的光学成像膜,其特征在于,所述光学成像膜还包括反射层,所述反射层设置于所述成像层的背离所述基材层的一侧。

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