[实用新型]一种涡流式磁分选抛光线设备有效
申请号: | 201921400954.6 | 申请日: | 2019-08-27 |
公开(公告)号: | CN211805500U | 公开(公告)日: | 2020-10-30 |
发明(设计)人: | 徐金发 | 申请(专利权)人: | 湖州星星研磨有限公司 |
主分类号: | B24B31/16 | 分类号: | B24B31/16;C02F9/04;B03C1/12 |
代理公司: | 北京方圆嘉禾知识产权代理有限公司 11385 | 代理人: | 董芙蓉 |
地址: | 313000 浙*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 涡流 分选 抛光 设备 | ||
本实用新型提供一种涡流式磁分选抛光线设备,包括机架,包括机架,机架上设有上料机构、涡流抛光机、自动加水加液机构、缓冲斗装置、振动冲洗装置以及磁分选机构;上料机构可转动设于涡流抛光机的前端,自动加水加液机构设于涡流抛光机上,缓冲斗装置可升降设于涡流抛光机的一侧,振动冲洗分离装置设于缓冲斗装置的前端,磁分选机构可升降设于振动冲洗分离装置上方,磁分选机构上设有用于对工件与磨料进行分选的磁选装置;通过设置磁分选机构,以解决工件与抛光用磨料外形尺寸大小一致时分选不干净的问题,避免抛光的工件与磨料分选不干净,从而提高分选精度和效率,且有效减少分选不干净的问题,防止了混料问题,提高批次抛光产品多种规格。
技术领域
本实用新型属于研磨设备技术领域,具体涉及一种涡流式磁分选抛光线设备。
背景技术
涡流式抛光设备现已较广泛用于机械制造、电子零部件、仪表仪器、军工航天等多种行业领域;对于中小型精密工件去毛刺、去飞边、倒角、除锈、去氧化皮、去除加工纹痕、抛光等性能,明显比传统表面处理设备提高,但自动化程度不高、人工劳动强度大、批次抛光效果不一致,满足不了现代化工厂的大批量生产,目前高端的全自动涡流式抛光线还是靠进口,国内生产的还取代不了昂贵的进口全自动涡流式抛光设备。
目前的涡流式抛光设备,大多都是单机制造、或增加一些简单功能、或部分功能存在缺陷,无法适应大规模的生产需求,且无法满足现代化工厂的要求,产品的功能性单一,产品的一致性难以控制;特别是在分选的过程中,当工件与抛光用磨料外形尺寸大小一致,易出现分选机构无法分选的情况,造成工件和磨料混合出料的问题出现。
实用新型内容
本实用新型的目的是针对上述技术中存在的不足之处,提出一种涡流式磁分选抛光线设备,旨在解决上述涡流式抛光设备因工件与抛光用磨料外形尺寸大小一致时无法分选的问题。
本实用新型提供一种涡流式磁分选抛光线设备,包括机架,包括机架,机架上设有上料机构、涡流抛光机、自动加水加液机构、缓冲斗装置、振动冲洗分离装置以及磁分选机构;上料机构可转动设于涡流抛光机的前端,自动加水加液机构设于涡流抛光机上,缓冲斗装置可升降设于涡流抛光机的一侧,振动冲洗分离装置设于缓冲斗装置的前端,磁分选机构可升降设于振动冲洗分离装置上方,磁分选机构上设有用于对工件与磨料进行分选的磁选装置。
进一步地,还包括用于控制抛光过程中的液位的液位自动控制机构,液位自动控制机构设于涡流抛光机的一侧,液位自动控制机构设有液位传感器,液位传感器位于涡流抛光机的外侧。
进一步地,还包括污水循环系统,污水循环系统设于机架的后方;污水循环系统包括污水缓冲池、污水处理机以及净水池;污水处理机设于污水缓冲池的一侧,污水处理机的输入口与污水缓冲池输出口连通;污水处理机的输出口与净水池的输入口连通,净水池的输出口通过水管与涡流抛光机连接。
进一步地,污水处理机设有用于分离杂污水中杂质的离心筒,离心筒的最高转速为2800r/min。
进一步地,还包括槽式磨料回流机构,槽式磨料回流机构设于机架上,并位于磁分选机构的下方;槽式磨料回流机构包括输送槽、直线导轨、第一液压缸以及第一振动电机;输送槽可滑动连接于直线导轨的上方,第一振动电机连接于输送槽的一侧,直线导轨的一端与第一液压缸的输出端连接。
进一步地,还包括控制箱,控制箱设于机架的后方,并位于净水池的一侧;控制箱分别与上料机构、污水循环系统、磁分选机构以及槽式磨料回流机构电性连接。
进一步地,磁分选机构还包括支架、第二液压缸、支座、伸缩杆以及驱动电机;支架和伸缩杆连接于机架上,支架和伸缩杆设于振动冲洗分离装置的一侧;第二液压缸设于支架上,伸缩杆的端部和第二液压缸的输出端分别与支座连接,驱动电机设于支座上;磁选装置连接于支座的一侧,驱动电机的输出端通过齿轮与磁选装置传动连接。
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