[实用新型]一种用于曝光机的大幅面LED平行光阵列

说明书

本实用新型公开了一种用于曝光机的大幅面LED平行光阵列，其包括透镜阵列基板、透镜、导热硅胶片、紫外发光二极管、紫外发光二极管阵列板和水冷板；所述的导热硅胶片覆盖在水冷板上方，紫外发光二极管间隔安装在紫外发光二极管阵列板上，紫外发光二极管阵列板安装在导热硅胶片上方，透镜阵列基板设于紫外发光二极管阵列板上方，透镜间隔安装在透镜阵列基板上且与紫外发光二极管相互对应设置对应。本实用新型在光源处设置水冷板，通过导热硅胶片传递热量，降低温度，可以防止工作时产生大量的热量导致LED灯以及线路发生故障，为曝光提供保障。

技术领域

本实用新型属于曝光机技术领域，尤其涉及一种用于曝光机的大幅面LED 平行光阵列。

背景技术

紫外线曝光机是指通过开启灯光发出UVA波长的紫外线，将胶片或其他透明体上的图像信息转移到涂有感光物质的表面上的机器设备。

双面曝光机具备一上一下两块曝光光源。一般来讲，LED平行光双面曝光机多使用LED冷光源，发光形状多为长条形，通过扫面式曝光方式对整面工件进行曝光。但扫描式曝光方式具有曝光能量低，曝光时间长，运动机构复杂的缺点。为了缩短曝光时间，提升设备产能，产生更大的经济效应，可以采用整面LED 光源一次性整面曝光的方式。但是整面LED光源由于使用了更多的LED，导致其功率变大，LED照射下的透镜阵列可能发生变形，使得LED光束平行角度变大，进而导致曝光效果变差，同时LED灯本身会产生大量的热量，导致LED灯和线路发生故障。

发明内容

本实用新型的目的在于针对上述缺陷，提供一种结构简单、自动散热，提高曝光效果的大幅面LED平行光阵列。

为了达到目的，本实用新型提供的技术方案为：

本实用新型涉及一种用于曝光机的大幅面LED平行光阵列，其包括透镜阵列基板、透镜、导热硅胶片、紫外发光二极管、紫外发光二极管阵列板和水冷板；所述的导热硅胶片覆盖在水冷板上方，紫外发光二极管间隔安装在紫外发光二极管阵列板上，紫外发光二极管阵列板安装在导热硅胶片上方，透镜阵列基板设于紫外发光二极管阵列板上方，透镜间隔安装在透镜阵列基板上且与紫外发光二极管相互对应设置对应。

优选地，所述的紫外发光二极管阵列板包括铝基板和接插件；所述的接插件安装在铝基板的一端部，铝基板上设有多个间隔设置的灯管安装口，所述的紫外发光二极管安装在灯管安装口内。接插件用于连接外部电源和控制装置，紫外发光二极管阵列板上的每个紫外发光二极管可单独设置引脚，当紫外发光二极管出现问题时就可以准确找到故障源，保证曝光光线的完整性。

优选地，所述的紫外发光二极管阵列板设有多个，间隔设置在导热硅胶片上方。

优选地，所述的透镜阵列基板上间隔设置透镜安装孔，透镜安装在透镜安装孔内。

优选地，所述的水冷板的两侧通过带锁紧的轴承连接在直线光轴上，所述的直线光轴固定在基座上。在设备装配过程中，设备装配的LED光源高度可能并不是准确的高度，通过直线光轴可以在设备调试过程中对光源高度进行调整，从而得到最好的光源位置。

优选地，所述的透镜阵列基板上设有温度传感器探头，温度传感器探头对透镜阵列基板的温度进行监测，防止透镜温度过高。

优选地，所述的透镜阵列基板为石墨基板。同等温度下，石墨的热变形量要比铝小很多，更好的保证了透镜位置的稳定性，保证曝光光线的准确性。

优选地，所述的水冷板内设有水通道，水通道的进出流道交叉分布。冷却水先流到水冷板中心，再流出水冷板。进出流道交叉分布能够最大限度更好的将热量吸收并排出去。

采用本实用新型提供的技术方案，与现有技术相比，具有如下有益效果：

1、本实用新型在光源处设置水冷板，通过导热硅胶片传递热量，降低温度，可以防止工作时产生大量的热量导致LED灯以及线路发生故障，为曝光提供保障。