[实用新型]真空显影装置

说明书

本实用新型提供了一种真空显影装置，它解决了显影液交换速率慢导致的显影效果不佳，显影液利用率低等问题。其包括具有内腔的显影箱体，显影箱体内设有用于放置具有上板面和下板面的板体的水平输送机构，水平输送机构上方和/或下方分别依次设有若干喷管，喷管一侧分别具有若干朝向板体的上板面和/或下板面的喷嘴，水平输送机构上方和/或下方固定或可活动地设有风刀组件，风刀组件具有朝向板体的上板面或下板面的风口，且各个风刀组件均与一个设置在显影箱体上端的第一级水汽分离装置相连，且第一级水汽分离装置通过第二级水汽分离装置和抽风机相连。本实用新型具有显影液交换率高，显影液利用充分等优点。

技术领域

本实用新型属于线路板技术领域，具体涉及一种真空显影装置。

背景技术

伴随着全球电子产品市场的需求升级和快速扩张，电子产品的小型化、高精密、超细线路印制电路板技术正进入一个突飞猛进的发展时期，为了能满足市场不断提升的需求，特别是超细线路印制电路板技术，只有提早开发和完善制程能力才能提升自己的市场竞争力，PCB板的成型需要经过蚀刻步骤，即利用蚀刻液将显影后的铜面蚀刻出线路，为了提高加工效率，PCB板是以水平状态输送并同时对上下表面喷淋蚀刻液的，然而因为上表面存在“水池效应”，所以上表面的蚀刻速度和均匀性总是比下表面差，在曝光设备能力和干膜解析能力提高的时候，“水池效应”成为了严重影响线路蚀刻精度的瓶颈。为了降低影响，上表面蚀刻时需要用到真空装置来吸走多余的蚀刻液，然而目前的设备吸液不彻底，效果不理想，同时，还存在着：显影液不能循环利用，浪费资源、显影液交换速度缓慢、显影液不能及时排除导致显影不洁等问题。

为了解决现有技术存在的不足，人们进行了长期的探索，提出了各式各样的解决方案。例如，由中国专利文献公开了一种新型真空蚀刻机及应用该真空蚀刻机的PCB制造工艺 [CN201710045537.3]，包括位于下方的储槽和位于上方的若干上传送辊和下传送辊，所述上传送辊和下传送辊之间为PCB板的水平输送线，所述水平输送线上方还设有若干吸液口，所述吸液口与其两侧的上传送辊合成为一浮动吸液机构，所述浮动吸液机构包括用于将所述上传送辊压在PCB板上的弹簧；工艺步骤包括表面清洁、表面粗化、贴感光膜、影像转移、线路成型和剥膜，上述方案在一定程度上解决了现有显影机不能及时排除显影液导致显影不洁的问题，但是该方案依然存在着诸多不足，例如：显影液交换速度缓慢、显影液无法循环利用，浪费资源。

发明内容

本实用新型的目的是针对上述问题，提供一种设计合理，加速显影液交换速率的真空显影装置。

为达到上述目的，本实用新型采用了下列技术方案：本真空显影装置，包括具有内腔的显影箱体，显影箱体内设有用于放置具有上板面和下板面的板体的水平输送机构，水平输送机构上方和/或下方分别依次设有若干喷管，喷管一侧分别具有若干朝向板体的上板面和/或下板面的喷嘴，水平输送机构上方和/或下方固定或可活动地设有风刀组件，风刀组件具有朝向板体的上板面或下板面的风口，且各个风刀组件均与一个设置在显影箱体上端的第一级水汽分离装置相连，且第一级水汽分离装置通过第二级水汽分离装置和抽风机相连，且第一级水汽分离装置和第二级水汽分离装置中至少一个为多层分离装置。通过在水平输送机构上方或下方设置风刀组件，从而及时吸走显影液，避免了水池效应导致的显影不洁，同时也加快了显影液交换速率，提高了显影效果。

在上述的真空显影装置中，第一级水汽分离装置为多层分离装置，且第一级水汽分离装置包括设置在显影箱体上端且具有分离腔的水汽分离箱体，显影箱体分别通过连通组件和风刀组件与第二级水汽分离装置相连，水汽分体箱体内设有能将分离腔分隔呈上下对应设置的上腔体和下腔体的分隔/连通结构，在上腔体内设有水汽分离组件，且下腔体通过第一阀体与显影箱体的内腔相连通，在显影箱体下端一侧设有第二阀体，且第二阀体一端与下腔体相连通，另一端连接有外部空气。