[实用新型]一种挤压涂布模头结构及其补充块有效
申请号: | 201921445064.7 | 申请日: | 2019-09-02 |
公开(公告)号: | CN210906751U | 公开(公告)日: | 2020-07-03 |
发明(设计)人: | 蒋中磊;朱坤庆;计阳;刘露;夏小勇;庞佩佩;占克军;楚英;张涛 | 申请(专利权)人: | 东莞维科电池有限公司 |
主分类号: | B05C5/02 | 分类号: | B05C5/02 |
代理公司: | 天津市北洋有限责任专利代理事务所 12201 | 代理人: | 潘俊达;郭宝煊 |
地址: | 523000 广东省东莞*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 挤压 涂布模头 结构 及其 补充 | ||
1.一种用于挤压涂布模头结构的补充块,其特征在于,所述补充块为半柱体,所述半柱体的一底面为断面,所述断面由第一切面、凹面和第二切面组成,所述第一切面和所述第二切面通过所述凹面连接,所述第一切面与所述半柱体的母线形成夹角α,10≤α≤80°。
2.根据权利要求1所述的用于挤压涂布模头结构的补充块,其特征在于,所述第二切面与所述母线形成夹角β,所述夹角β大于所述夹角α,20≤β≤90°。
3.根据权利要求2所述的用于挤压涂布模头结构的补充块,其特征在于,所述夹角β为45~90°。
4.根据权利要求1所述的用于挤压涂布模头结构的补充块,其特征在于,所述夹角α为30~70°。
5.根据权利要求1所述的用于挤压涂布模头结构的补充块,其特征在于,所述半柱体的平面侧设置有延伸至所述断面与所述半柱体另一底面的缺槽。
6.根据权利要求1所述的用于挤压涂布模头结构的补充块,其特征在于,所述补充块中设置有磁铁。
7.一种挤压涂布模头结构,其特征在于,包括上模头、下模头、补充块以及间隔于所述上模头和所述下模头之间的垫片,所述补充块为权利要求1~6任一项所述的补充块,所述补充块设置在所述上模头和/或下模头的模腔中,所述补充块的弧面侧与所述上模头和/或下模头相匹配。
8.根据权利要求7所述的挤压涂布模头结构,其特征在于,所述补充块为两个,分别对称设置在所述上模头和所述下模头的一端。
9.根据权利要求7所述的挤压涂布模头结构,其特征在于,所述补充块为四个,两个对称设置在所述上模头和所述下模头的左端,另外两个对称设置在所述上模头和所述下模头的右端。
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