[实用新型]红外带通滤波结构及应用该结构的红外带通滤波器有效
| 申请号： | 201921490879.7 | 申请日： | 2019-09-09 |
| 公开（公告）号： | CN211236324U | 公开（公告）日： | 2020-08-11 |
| 发明（设计）人： | 邹政兴;郑暐皞;倪培元 | 申请（专利权）人： | 晶瑞光电股份有限公司 |
| 主分类号： | G02B5/20 | 分类号： | G02B5/20;G02B1/115 |
| 代理公司： | 北京华夏正合知识产权代理事务所(普通合伙) 11017 | 代理人： | 韩登营 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 台湾;71 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 外带 滤波 结构 应用 红外 带通滤波器 | ||
1.一种红外带通滤波结构，其特征在于，所述红外带通滤波结构是由复数氢化硅铝SiAl:H层及折射率低于所述复数氢化硅铝层的复数较低折射率层交互堆栈形成，所述复数较低折射率层为一氧化物，所述红外带通滤波结构具有800nm至1600nm的波长范围内至少部分重迭的一通带passband，所述通带具有一中心波长，且所述中心波长在入射角自0°改变至30°时，在量值magnitude上偏移shifts幅度小于11nm。
2.如权利要求1所述的红外带通滤波结构，其特征在于，所述红外带通滤波结构的厚度为3000～5500nm。
3.如权利要求1所述的红外带通滤波结构，其特征在于，所述红外带通滤波结构在350nm～1600nm的波长范围内具有高OD值，在800nm至1600nm的波长范围内具有高穿透率。
4.如权利要求1所述的红外带通滤波结构，其特征在于，所述红外带通滤波结构在可见光范围时色坐标位在x轴坐标0.2～0.5、y轴坐标0.2～0.5处，反射率低于20％。
5.如权利要求1所述的红外带通滤波结构，其特征在于，复数氢化硅铝层在800nm至1600nm波长范围内的折射率为3.1～3.6，消光系数为1.E-4～1.E-6，在350nm至700nm波长范围内的消光系数大于0.005。
6.如权利要求1所述的红外带通滤波结构，其特征在于，复数较低折射率层在800nm至1600nm的波长范围内的折射率小于1.8，消光系数小于0.0005。
7.一种红外带通滤波器，其特征在于，包括：
一基板，其同时具有一第一侧面及位于所述第一侧面相反侧的一第二侧面；
一红外带通滤波结构，其形成于所述基板的第一侧面，由复数氢化硅铝SiAl:H层及复数较低折射率层交互堆栈形成，所述复数较低折射率层为一氧化物，所述红外带通滤波结构具有800nm至1600nm 的波长范围内至少部分重迭的一通带passband，所述通带具有一中心波长，且所述中心波长在入射角自0°改变至30°时，在量值magnitude上偏移shifts幅度小于11nm；以及
一抗反射AR层，其形成于所述基板的第二侧面。
8.如权利要求7所述的红外带通滤波器，其特征在于，所述红外带通滤波结构的厚度为3000～5500nm。
9.如权利要求7所述的红外带通滤波器，其特征在于，所述红外带通滤波结构在350nm～1600nm的波长范围内具有高OD值，在800nm至1600nm的波长范围内具有高穿透率。
10.如权利要求7所述的红外带通滤波器，其特征在于，所述红外带通滤波结构在可见光范围时色坐标位在x轴坐标0.2～0.5、y轴坐标0.2～0.5处，反射率低于20％。
11.如权利要求7所述的红外带通滤波器，其特征在于，所述复数氢化硅铝层在800nm至1600nm波长范围内的折射率为3.1～3.6，消光系数为1.E-4～1.E-6，在350nm至700nm波长范围内的消光系数大于0.005。
12.如权利要求7所述的红外带通滤波器，其特征在于，所述复数较低折射率层在800nm至1600nm的波长范围内的折射率小于1.8，消光系数小于0.0005，在350nm至700nm波长范围内的消光系数大于0.005。
13.如权利要求7所述的红外带通滤波器，其特征在于，所述抗反射层的厚度为3000nm～6000nm。
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