[实用新型]一种新型光能量增强利用结构有效
申请号: | 201921491802.1 | 申请日: | 2019-09-09 |
公开(公告)号: | CN210466009U | 公开(公告)日: | 2020-05-05 |
发明(设计)人: | 范金刚;蓝学军;胡迷俊 | 申请(专利权)人: | 深圳市博宇佳瑞光电科技有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 深圳市神州联合知识产权代理事务所(普通合伙) 44324 | 代理人: | 周松强 |
地址: | 518000 广东省深圳市龙华*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 新型 能量 增强 利用 结构 | ||
一种新型光能量增强利用结构,其包括第一菲涅尔透镜、第二菲涅尔透镜和曝光灯,第一菲涅尔透镜、第二菲涅尔透镜和曝光灯在竖直方向上依次设置,第一菲涅尔透镜的焦距为f1,第二菲涅尔透镜的焦距为f2,第一菲涅尔透镜和第二菲涅尔透镜之间的距离a,曝光灯与第二菲涅尔透镜之间的距离为s,曝光灯在第二菲涅尔透镜下方有一放大的虚像,该虚像与第二菲涅尔透镜之间的距离为s’,且符合f1=a+s’,‑1/s+1/s’=1/f2,虚像恰好在第一菲涅尔透镜的焦点上。曝光灯的虚像发出的光经过第一菲涅尔透镜的折射形成平行光,提高曝光图像的还原度,解决了现有技术中斜射光线解像度差和因固定灯距的点光源漫反射反光罩对光源能量利用率不高的问题。
技术领域
本实用新型涉及曝光技术领域,特别涉及一种光能量增强利用结构。
背景技术
曝光机属于精密光刻成像装置,是指通过开启灯光发出UVA波长的紫外线,将胶片或其他透明体上的图像信息转移到涂有感光物质的表面上的机器设备。紫外曝光机,也称光刻机、掩模对准曝光机、曝光系统、光刻系统等,其主要性能指标有:支持基片的尺寸范围,分辨率、对准精度、曝光方式、光源波长、光强均匀性、生产效率等。
在曝光机行业,UVLED取代汞灯作为曝光机的曝光光源有显著优势。UVLED寿命可达20000-30000小时。UVLED可在需要工作时瞬间点亮,功率只有几十瓦,非常节能,最重要的特点是UVLED 单色性好,发光光谱窄,不需要滤光,不产生红外线与热辐射。用 UVLED做光源不仅简化了整个系统结构,还大大提高了整个系统的寿命,综合运行成本可降低80%,但曝光机对被照射工作面的入射光功率,均匀性,光线准直性要求非常高。
现有技术公开了一种曝光机的平行光调节装置(申请号: 201720965510.1),该装置包括机壳,第一固定板和第二固定板的底部均固定焊接在支撑架,灯套的内腔中安装有LED灯管,灯套的两侧面圆心处焊接有转轴,转轴的两端分别穿过条形槽连接有齿轮;上顶板的下表面开设有齿槽,齿槽与齿轮啮合;散热机的底部固定在机壳的内部底壁上。本曝光机的平行光调节装置,LED灯管发出的光透过灯套直射在曝光面板上,气缸驱动气缸杆进行来回伸缩,转环会发生前后移动,推动转环后,转轴同样会发生旋转,齿轮在齿槽上移动,LED灯管发生移动,LED灯管功率小,发热少,有效提升曝光光源组的功率,降低曝光室的聚热现象。
但,现有的曝光机在一般都存在以下缺点:
1、已有的固定灯距点光源曝光机,都只有一个反光罩都是斜面漫反射型的;
2、灯管点亮以后,经过漫反射型的斜面反射到曝光台面上;
3、同一个点会受到各个方向来的光线照射,光能量分布不均匀;
4、光线的解像度差,经过光学转移得到的图像边缘不整齐,精细图案的图像还原度不高。
发明内容
针对上述技术中存在的不足之处,本实用新型的目的是提供一种新型光能量增强利用结构,该结构的结构简单,在不保证增加现有的曝光机高度的情况下,利用该结构可以有效的提高曝光灯的光线在到达曝光台时的是平行度高平行光,提高光线的解像度,同时也可以提高固定灯距的点光源漫反射反光罩对光源能量利用率。
为实现上述目的,本实用新型是这样实现的:
一种新型光能量增强利用结构,其特征在于其包括第一菲涅尔透镜、第二菲涅尔透镜和曝光灯,所述第一菲涅尔透镜靠近曝光台面,所述第一菲涅尔透镜、第二菲涅尔透镜和曝光灯在竖直方向上依次设置,所述第一菲涅尔透镜的焦距为f1,所述第二菲涅尔透镜的焦距为 f2,所述第一菲涅尔透镜和第二菲涅尔透镜之间的距离a,所述曝光灯与第二菲涅尔透镜之间的距离为s,所述曝光灯在第二菲涅尔透镜下方有一放大的虚像,该虚像与第二菲涅尔透镜之间的距离为s’,且符合f1=a+s’,-1/s+1/s’=1/f2,所述虚像恰好在第一菲涅尔透镜的焦点上。
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