[实用新型]一种镍钛合金电化学抛光装置

说明书

本实用新型涉及化学抛光领域，具体的公开了一种镍钛合金电化学抛光装置，包括底座、支撑立柱、支撑横梁和电控箱；所述底座上安装有竖直方向上的电机,电机的输出轴上端同轴固定有在水平方向上绕中心轴转动的旋转座；所述旋转座包括有支撑盘、导向板和限位凸起，导向板固定在支撑盘的上表面边缘，形成环状结构，在支撑盘的上表面固定有多个限位凸起；在所述支撑盘上放置有与导向板内壁间隙配合的电解槽。本实用新型通过设置的旋转座使放在其上的电解槽跟随其旋转，内部的液体与工件相对移动，在液体流动过程中将工件表面的氧化膜以及溶解物能够快速的从工件表面脱离，提高抛光效率。

技术领域

本实用新型涉及化学抛光技术领域，具体是一种镍钛合金电化学抛光装置。

背景技术

电化学抛光是近几十年发展起来的表面处理技术，目的是为了改善金属表面的微观几何形状，降低金属表面的显微粗糙程度。电化学抛光的原理是在一定电解液中以金属工件为阳极，同时进行两个互相矛盾的过程(即金属表面氧化膜的生成和溶解)，使金属工件表面的粗糙度下降，光亮度提高，并产生一定的金属光泽。

现有的化学抛光装置结构简单，在抛光过程中内部的水流静止，使得抛光效率降低，尤其是不便于表面金属氧化膜的脱离，因此，需要对现有的抛光装置进行改进，解决上述问题。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种镍钛合金电化学抛光装置，以解决上述背景技术中提出的问题。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：

一种镍钛合金电化学抛光装置，包括底座、支撑立柱、支撑横梁和电控箱；所述支撑立柱竖直固定安装在底座的上表面，支撑横梁水平固定在支撑立柱的顶端上，支撑横梁位于底座的上方；所述电控箱固定安装在底座上；所述底座上安装有竖直方向上的电机,电机的输出轴上端同轴固定有在水平方向上绕中心轴转动的旋转座，通过电机驱动其转动；所述旋转座包括有支撑盘、导向板和限位凸起，导向板固定在支撑盘的上表面边缘，形成环状结构，在支撑盘的上表面固定有多个限位凸起；在所述支撑盘上放置有与导向板内壁间隙配合的电解槽，电解槽的底部上对应的限位凸起位置上开设有与限位凸起配合的安装槽，在电解槽放置在支撑盘上后通过限位凸起伸入到安装槽内，将其位置限定，使其跟随旋转座同步转动，使内部的液体跟随移动；所述电解槽的上方对应的支撑横梁上固定安装有竖直的升降气缸，升降气缸的输出端向上固定连接有竖直的与电解槽同轴的连杆，连杆的下端固定安装有放置架，将需要抛光的工件放置于放置架上，放置架上连接阳极，实现电化学抛光，通过升降气缸驱动放置架升降，使其浸入到电解槽的液体中；在支撑横梁上固定有挂架，挂架上挂接有连接钢丝，连接钢丝的下端伸入到电解槽内，其端部上固定有阴极棒。

进一步的：所述支撑盘为圆形盘结构。

进一步的：所述导向板的高度为8-12mm。

进一步的：所述限位凸起为柱体结构，其高度低于导向板的上端面。

进一步的：所述限位凸起采用圆柱体结构。

进一步的：所述连杆上套设有在竖直方向上移动的套环，套环的一侧上螺纹安装有调节螺栓，能够将套环固定在连杆上，套环的另外一侧上固定有水平的水平连杆,水平连杆上固定有竖直的向下可伸入到电解槽内的搅拌结构，通过电解槽转动，使搅拌结构对内部的液体搅动，提高内部液体的流动性。

进一步的：所述搅拌结构为片状结构。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：本实用新型通过设置的旋转座使放在其上的电解槽跟随其旋转，内部的液体与工件相对移动，在液体流动过程中将工件表面的氧化膜以及溶解物能够快速的从工件表面脱离，提高抛光效率；能够上下调节的搅拌结构对内部的液体搅动，实现快速抛光，提高生产效率。

附图说明

图1为一种镍钛合金电化学抛光装置的结构示意图。