[实用新型]一种溅射成膜装置有效
申请号: | 201921510677.4 | 申请日: | 2019-09-11 |
公开(公告)号: | CN210420144U | 公开(公告)日: | 2020-04-28 |
发明(设计)人: | 余龙;张詠麟;马淑莹;裴蓓 | 申请(专利权)人: | 光驰科技(上海)有限公司 |
主分类号: | C23C14/50 | 分类号: | C23C14/50;C23C14/34;C23C14/54 |
代理公司: | 上海申蒙商标专利代理有限公司 31214 | 代理人: | 周宇凡 |
地址: | 200444 上海市宝*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 溅射 装置 | ||
1.一种溅射成膜装置,包括设置在真空成膜室内的基板托盘公转转台、基板托盘自转转台,其中所述基板托盘公转转台可在所述真空成膜室内公转,所述基板托盘自转转台与所述基板托盘公转转台相连接并可在所述真空成膜室内自转,其特征在于:所述基板托盘公转转台与一设置在所述真空成膜室外部的公转马达驱动连接并在其驱动下旋转,所述基板托盘自转转台与一设置在所述真空成膜室内部的自转真空马达相驱动连接,所述自转真空马达通过真空导入电极与一设置在所述真空成膜室外部的导电滑环相连接,所述基板托盘自转转台在所述的所述自转真空马达的驱动下旋转。
2.根据权利要求1所述的一种溅射成膜装置,其特征在于:所述基板托盘自转转台下方设置若干个子转台,所述子转台分别连接有非接触磁力传动部品,若干个所述子转台可分别通过各自的所述非接触磁力传动部品实现在所述基板托盘自转转台驱动下的多级自转。
3.根据权利要求1所述的一种溅射成膜装置,其特征在于:所述基板托盘自转转台所承载的基板呈水平放置或竖直放置。
4.根据权利要求1所述的一种溅射成膜装置,其特征在于:所述公转马达通过传动机构连接所述基板托盘公转转台。
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