[实用新型]一种反向导通场截止型IGBT有效

专利信息
申请号: 201921512202.9 申请日: 2019-09-11
公开(公告)号: CN210073859U 公开(公告)日: 2020-02-14
发明(设计)人: 徐守一;陈广乐;蔡铭进 申请(专利权)人: 厦门芯达茂微电子有限公司
主分类号: H01L29/06 分类号: H01L29/06;H01L21/331;H01L29/739
代理公司: 35234 厦门加减专利代理事务所(普通合伙) 代理人: 王春霞
地址: 361006 福建省厦门市火炬高新区火炬园*** 国省代码: 福建;35
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摘要:
搜索关键词: 衬底 反向导通 场限环 截止型 氧化物介质层 本实用新型 电场 漂移区 终止层 载流子 漂移 高能电子束 载流子寿命 场氧化层 高温退火 晶格缺陷 辐照 钝化层 发射极 集电极 导通 反偏 晶圆 压降 背面 背离 复合 引入 覆盖
【权利要求书】:

1.一种反向导通场截止型IGBT,其特征在于:包括衬底;所述衬底为P型衬底(10);所述P型衬底(10)的背面设有集电极(20);所述P型衬底(10)的正面设有电场终止层(30);所述电场终止层(30)背离所述P型衬底(10)的一面设有漂移区(40);所述漂移区(40)内设有P型的场限环(50),所述场限环(50)设有多个;所述场限环(50)上设有场氧化层(60)和氧化物介质层(70);

所述P型衬底(10)的正面还设有P阱(80),所述P阱(80)内设有发射极(81);所述氧化物介质层(70)上覆盖设有钝化层(90)。

2.根据权利要求1所述的反向导通场截止型IGBT,其特征在于:所述发射极(81)为N型。

3.根据权利要求1所述的反向导通场截止型IGBT,其特征在于:所述电场终止层(30)的厚度为4um-6um。

4.根据权利要求1所述的反向导通场截止型IGBT,其特征在于:所述漂移区(40)的厚度为45um-55um。

5.根据权利要求1所述的反向导通场截止型IGBT,其特征在于:所述氧化物介质层(70)的厚度为0.3um-0.7um。

6.根据权利要求1所述的反向导通场截止型IGBT,其特征在于:所述集电极(20)采用TiNiAg制成。

7.根据权利要求1所述的反向导通场截止型IGBT,其特征在于:所述钝化层(90)采用SiO2和Si3N4制成。

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