[实用新型]一种超短距微透镜阵列干涉3D成像手机镜头有效

专利信息
申请号: 201921514498.8 申请日: 2019-09-12
公开(公告)号: CN210327741U 公开(公告)日: 2020-04-14
发明(设计)人: 乔士琪 申请(专利权)人: 乔士琪
主分类号: H04N5/225 分类号: H04N5/225;H04M1/02;H04N13/204
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 152300 黑龙江省*** 国省代码: 黑龙江;23
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 超短 透镜 阵列 干涉 成像 手机 镜头
【说明书】:

实用新型涉及一种超短距微透镜阵列干涉3D成像手机镜头,包括CMOS镜头及位于所述CMOS镜头前方的光学系统,所述光学系统包括依次并行排列的三片微透镜,光学器件A、光学器件B、光学器件C。相对于传统光学成像,该技术方案一是在体积质量上更有优势,可以让相机质量下降90%,并且在形状安排上更为灵活,与传统圆柱体结构相比更容易安置。二是在制造工艺上更有优势,制作周期短,可大大提高生产效率。

技术领域

本实用新型涉及成像技术装置领域,具体是一种超短距微透镜阵列干涉3D成像手机镜头。

背景技术

传统的光学成像技术类似于人眼看物,通过一系列的透镜或者反射镜将来自物方的光线成像到ccd上,再通过ccd进行光电转换来获得图像。而微透镜干涉光学成像技术则不一样,它是通过微透镜阵列将光线收集到光子集成电路,在频域进行成像,再对其进行傅里叶逆变换来获得原图像。

这种微透镜阵列干涉成像技术在成像能力上也非常可观,对于500nm、300km高、0.5m基线长度的相机,空间分辨率可以达到0.3m。

而相对于传统光学成像,微透镜阵列干涉成像技术最关键的优势有两项:一是在体积质量上更有优势,可以让相机质量下降90%,并且在形状安排上更为灵活,与传统圆柱体结构相比更容易安置。二是在制造工艺上更有优势,传统的大口径光学系统制造非常复杂与昂贵,一些知名的望远镜系统的镜片甚至是用年做为周期的,而微透镜则省时的多,只需要几周便可以制作完成了。

实用新型内容

本实用新型所要解决的技术问题是提供一种超短距微透镜阵列干涉3D成像手机镜头,以解决现有技术中存在的缺陷。

本实用新型解决上述技术问题的技术方案如下:

一种超短距微透镜阵列干涉3D成像手机镜头,包括CMOS镜头及位于所述CMOS镜头前方的光学系统,所述光学系统包括依次并行排列的三片微透镜,光学器件A、光学器件B、光学器件C;所述光学器件A靠近CMOS镜头,所述光学器件A、光学器件B、光学器件C和CMOS镜头尺寸相同,且其光学总长度为3mm,镜头外直径小于6mm;

进一步的,所述CMOS镜头与光学器件A之间介质为空气,CMOS镜头至光学器件A的光心距离为1mm;

进一步的,所述光学器件A为凸透镜矩形阵列,总体尺寸同cmos有效尺寸,且所述光学器件A为理想光学器件,不依附于任何光学基底材料,光学器件A的凸透镜工作面为远离CMOS镜头的工作面,也即光线从右至左经过光学器件A的凸透镜阵列到达CMOS镜头,凸透镜X/Y方向周期相同,为P0=200μm,凸透镜口径D0=100μm,焦距f0=120μm,其余无透镜部分,为光阑部分;

进一步的,所述光学器件A与光学器件B之间介质为空气,所述光学器件A至光学器件B的光心距离为1mm。

进一步的,所述光学器件B为凹透镜矩形阵列,总体尺寸同CMOS镜头有效尺寸,光学器件B为理想光学器件,不依附于任何光学基底材料,只是凹透镜阵列,光学器件B的凹透镜工作面为远离CMOS镜头的工作面,也即光线从右至左经过光学器件B的凹透镜阵列到达光学器件A;凹透镜X/Y方向周期相同,为P0=150μm,凹透镜口径D0=90μm,焦距f0=100μm,其余无透镜部分,为光阑部分。

进一步的,所述光学器件B与光学器件C之间介质为空气,所述光学器件B至光学器件C的光心距离为1mm。

进一步的,所述光学器件C为凸透镜矩形阵列,总体尺寸同CMOS镜头有效尺寸,光学器件B为理想光学器件,不依附于任何光学基底材料,只是凸透镜阵列,光学器件C的凸透镜工作面为远离CMOS镜头的工作面,也即光线从右至左经过光学器件C的凸透镜阵列到达光学器件B;凸透镜X/Y方向周期相同,为P0=250μm,凸透镜口径D0=120μm,焦距f0=150μm,其余无透镜部分,为光阑部分。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于乔士琪,未经乔士琪许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201921514498.8/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top