[实用新型]一种大尺寸硅片切割液硅粉浓度检测装置

权利要求书

1.一种大尺寸硅片切割液硅粉浓度检测装置，其特征在于，包括供液系统和切割系统，其中，所述供液系统包括供液源、过滤罐和检测仪，所述供液源的输出端与所述过滤罐的输出端连通，并置于所述过滤罐的下方；所述供液源和所述过滤罐经同一管道与所述切割系统连通；所述检测仪置于所述过滤罐内侧下部且置于所述过滤罐输出口上方；所述切割系统包括切割室、喷淋管和回收桶，所述喷淋管置于所述切割室内，所述喷淋管与所述供液源连通，所述回收桶置于所述切割室下方并与所述切割室下端出口连通，所述回收桶与所述过滤罐连通。

2.根据权利要求1所述的一种大尺寸硅片切割液硅粉浓度检测装置，其特征在于，所述过滤罐包括上开口的柱状罐体；在所述罐体侧壁靠近上开口处设有输入口；在所述罐体内壁设有与所述罐体一体成型的环状凸缘，所述凸缘位于所述输入口下方。

3.根据权利要求2所述的一种大尺寸硅片切割液硅粉浓度检测装置，其特征在于，在所述罐体内设有过滤结构，所述过滤结构置于所述凸缘下方并与所述凸缘上端面配合；所述过滤结构位于所述检测仪上方。

4.根据权利要求3所述的一种大尺寸硅片切割液硅粉浓度检测装置，其特征在于，所述过滤结构包括固定架，在所述固定架下方设有与所述固定架一体设置的滤网支架，沿所述滤网支架内壁设有若干向内延伸的凸台，所述凸台均匀间隔设置。

5.根据权利要求4所述的一种大尺寸硅片切割液硅粉浓度检测装置，其特征在于，在所述滤网支架上方设有第一过滤网，所述第一过滤网与所述凸台之间设有空隙；在相邻所述凸台之间设有第二过滤网，所述第二过滤网位于所述滤网支架下端部；所述第一过滤网网孔大于所述第二过滤网网孔。

6.根据权利要求1-5任一项所述的一种大尺寸硅片切割液硅粉浓度检测装置，其特征在于，所述供液系统还包括热交换器，所述热交换器置于所述供液源与所述喷淋管之间；所述热交换器的温度为16-18℃。

7.根据权利要求6所述的一种大尺寸硅片切割液硅粉浓度检测装置，其特征在于，在所述切割室下部设有导流筒，所述导流筒的出口与所述回收桶的上端口连通。

8.根据权利要求7所述的一种大尺寸硅片切割液硅粉浓度检测装置，其特征在于，在所述导流筒下端口设有第三过滤网。

9.根据权利要求8所述的一种大尺寸硅片切割液硅粉浓度检测装置，其特征在于，在所述回收桶内设有水泵，所述水泵的输出端与所述过滤罐的输入端连通。

10.根据权利要求9所述的一种大尺寸硅片切割液硅粉浓度检测装置，其特征在于，在所述回收桶的外侧端壁的下部设有排液口；在回收桶内部设有第四过滤网，所述第四过滤网位于所述排液口的上方，且位于所述水泵的下方。