[实用新型]一种低辐射镀膜玻璃生产用镀膜装置

说明书

本实用新型涉及玻璃生产设备技术领域，尤其是一种低辐射镀膜玻璃生产用镀膜装置，包括壳体，壳体内顶面设置有第一加热器，壳体内底面设置有蒸发装置，壳体侧边对称设有第一滑轨，第一滑轨上设有第一滑块，第一滑块上设有通过回转台连接的支撑杆，支撑杆另一端设有带有第二滑轨的安装板，第二滑轨上间隔设置有第二滑块，第二滑块上设置有连接板，连接板皆间隔设置有通过固定杆连接的夹块。本实用新型通过和第二滑块连接的夹块固定基片，并且在回转台的作用下使得基片能够在壳体内旋转翻面，镀膜更加均匀，提高生产效率，垫片能够防止夹块夹持基片时损伤基片表面，第一滑块和第一滑轨的配合便于基片在壳体内调整位置后旋转。

技术领域

本实用新型涉及玻璃生产设备技术领域，尤其是一种低辐射镀膜玻璃生产用镀膜装置。

背景技术

真空镀膜是指在真空条件下，采用低电压、大电流的电弧放电技术，利用气体放电使靶材蒸发并使被蒸发物质与气体都发生电离，利用电场的加速作用，使被蒸发物质及其反应产物沉积在工件上，也称为物理气相沉积(PVD)。目前真空镀膜技术主要有蒸发镀膜、溅射镀膜和离子镀这三种方法。真空蒸发是在真空下进行的蒸发操作，在真空蒸发流程中，末效的二次蒸汽通常在混合式冷凝器中冷凝，真空蒸发的特点是，在低压下溶液的沸点降低且用较少的蒸汽蒸发大量的水分。现有技术中真空镀膜设备对镀膜产品结构的局限性较大，放置在内的产品无法自动翻面导致前后两侧镀膜厚度不均匀，若要使得其镀膜均匀需要拿出重新放置，这样产品生产效率低。

实用新型内容

为了克服现有的低辐射镀膜玻璃生产用镀膜装置技术的不足，本实用新型提供了一种低辐射镀膜玻璃生产用镀膜装置。

本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是：一种低辐射镀膜玻璃生产用镀膜装置，包括壳体，所述壳体内顶面设置有第一加热器，壳体内底面设置有蒸发装置，壳体侧边对称设置有第一滑轨，第一滑轨上设置有第一滑块，第一滑块上设置有通过回转台连接的支撑杆，支撑杆另一端设置有带有第二滑轨的安装板，第二滑轨上间隔设置有第二滑块，第二滑块上设置有连接板，连接板皆间隔设置有通过固定杆连接的夹块。

根据本实用新型的另一个实施例，进一步包括壳体正面设置有料口和控制器，料口设置在控制器上方，壳体左侧设置有真空泵，壳体右侧设置有观察口。

根据本实用新型的另一个实施例，进一步包括料口内设置有通过铰接结构固定的箱门，箱门上设置有旋紧把手。

根据本实用新型的另一个实施例，进一步包括壳体内后侧设置有膜厚监测器，壳体内左侧设置有真空规管，真空规管设置在第一滑轨下方。

根据本实用新型的另一个实施例，进一步包括蒸发装置包括通过支架固定的蒸发皿和第二加热器，第二加热器设置在支架之间并固定在壳体内底面。

根据本实用新型的另一个实施例，进一步包括夹块上设置有用于固定基片的垫片。

本实用新型的有益效果是：本实用新型通过和第二滑块连接的夹块固定基片，并且在回转台的作用下使得基片能够在壳体内旋转翻面，镀膜更加均匀，实现了自动化操作，提高生产效率，垫片能够防止夹块夹持基片时损伤基片表面，第一滑块和第一滑轨的配合便于基片在壳体内调整位置后旋转。

附图说明

下面结合附图和实施例对本实用新型进一步说明。

图1是本实用新型的剖面结构示意图；

图2是本实用新型的正面结构示意图；

图3是本实用新型的侧剖面结构示意图。