[实用新型]工业检测用同轴光源装置有效
申请号: | 201921536561.8 | 申请日: | 2019-09-16 |
公开(公告)号: | CN210572012U | 公开(公告)日: | 2020-05-19 |
发明(设计)人: | 江才权;黄时平 | 申请(专利权)人: | 东莞科麦视觉科技有限公司 |
主分类号: | G01N21/88 | 分类号: | G01N21/88;G01N21/01 |
代理公司: | 北京卓恒知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 11394 | 代理人: | 李迪 |
地址: | 523000 广东省东莞市长安镇新*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 工业 检测 同轴 光源 装置 | ||
本实用新型公开了一种工业检测用同轴光源装置,包括:壳体、光源、分光镜,所述壳体的两个侧面分别设有相互平行布置的观察窗口和照射窗口,所述分光镜与所述观察窗口及照射窗口呈45度角倾斜地设置于所述观察窗口和照射窗口之间,所述光源发出的光呈与所述观察窗口及照射窗口平行方向地照射到所述分光镜上。本实用新型是一种均匀照明、成像清晰、避免反光、提高机器视觉的准确性和重现性的工业检测用同轴光源装置。
技术领域
本实用新型涉及同轴光源技术领域,尤其涉及一种均匀照明、成像清晰、避免反光、提高机器视觉的准确性和重现性的工业检测用同轴光源装置。
背景技术
在工业应用中,同轴光主要用于显微镜或视觉系统的照明,使用同轴光可以提供更均匀的照明,成像清晰,同时避免物体的反光,因此提高了机器视觉的准确性和重现性。市场上公知的普通光源无法检测反光程度很厉害的平面物体,无法克服表面反光造成的干扰。
因此,亟需一种均匀照明、成像清晰、避免反光、提高机器视觉的准确性和重现性的工业检测用同轴光源装置。
实用新型内容
本实用新型的目的是提供一种均匀照明、成像清晰、避免反光、提高机器视觉的准确性和重现性的工业检测用同轴光源装置。
为了实现上述目的,本实用新型提供的技术方案为:提供一种工业检测用同轴光源装置,包括:壳体、光源、分光镜,所述壳体的两个侧面分别设有相互平行布置的观察窗口和照射窗口,所述分光镜与所述观察窗口及照射窗口呈45度角倾斜地设置于所述观察窗口和照射窗口之间,所述光源发出的光呈与所述观察窗口及照射窗口平行方向地照射到所述分光镜上。
所述分光镜由两个三棱镜组成,且两个所述三棱镜的胶合面为分光面。
所述壳体为长方形壳体,所述观察窗口与照射窗口分别布置于所述壳体的上侧面与下侧面,所述光源设置于所述壳体内部的左侧,且所述光源发出的光向右侧照射。
还包括匀光板,所述光源为LED光源,并贴合于所述壳体的左侧面内壁处,且所述光源发出的光照射到所述分光镜之前还经过所述匀光板进行匀光。
所述LED光源为单色LED光源或多色LED光源。
所述LED光源可由多个LED光源阵列布置而成。
本实用新型的目的是针对现有技术的不足,提供一种工业检测用同轴光源装置,它可以使LED光来到45度分光镜,一半的光直接穿过分光镜照射到出光口,这部分光不会进入摄像头,对成像没有影响,另一半光经分光镜反射通过照射窗口照射到下面的物体上,从物体上反射上来的光来到45度分光镜,又是一半的光照射到上面的摄像头,这部分光用于成像,另一半光通过分光镜反射到LED灯上,这部分光对成像没有影响,从而减少光损失,提高成像清晰度,均匀照射物体表面,从而检测反光程度很厉害的平面物体,比如金属、玻璃、胶片、晶片等表面的划伤检测,芯片和硅晶片的破损检测,标记点定位,包装条码识别。
通过以下的描述并结合附图,本实用新型将变得更加清晰,这些附图用于解释本实用新型的实施例。
附图说明
图1所示为本实用新型工业检测用同轴光源装置的一个实施例的示意图。
图2所示为如图1所示的工业检测用同轴光源装置的观察窗口的示意图。
图3所示为如图1所示的工业检测用同轴光源装置的照射窗口的示意图。
具体实施方式
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