[实用新型]深度检测系统及其支架和电子装置有效

专利信息
申请号: 201921543845.X 申请日: 2019-09-17
公开(公告)号: CN210570528U 公开(公告)日: 2020-05-19
发明(设计)人: 田浦延;王小明 申请(专利权)人: 柳州阜民科技有限公司
主分类号: G01B11/22 分类号: G01B11/22
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 545000 广西壮族自治*** 国省代码: 广西;45
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摘要:
搜索关键词: 深度 检测 系统 及其 支架 电子 装置
【权利要求书】:

1.一种深度检测系统,其特征在于,包括:

发射模组,用于发射具有参考图案的检测光束;

接收模组,用于采集被外部对象反射的具有检测图案的检测光束;

其中,所述发射模组和/或接收模组的边缘所在直线相对所述发射模组和接收模组的基线所在直线具有一定角度;或者

所述发射模组边缘所在直线和所述接收模组边缘所在直线具有一定角度。

2.根据权利要求1所述的深度检测系统,其特征在于,所述发射模组具有面向外部投影空间的发光面,所述发射模组具有和所述发光面垂直的发射轴,所述接收模组具有面向外部投影空间的感光面,所述接收模组具有和所述感光面垂直的感光轴,所述发光面和所述感光面相互平行,或者所述发光面和所述感光面位于同一平面。

3.根据权利要求2所述的深度检测系统,其特征在于,所述发射模组的发光面和/或所述接收模组的感光面的边缘所在直线或其平行线相对所述基线所在直线具有大于0度且小于或等于45度的角度。

4.根据权利要求2所述的深度检测系统,其特征在于,所述发射模组的发光面边缘所在直线和所述接收模组的感光面边缘所在直线之间角度为大于0度且小于或等于45度。

5.根据权利要求1所述的深度检测系统,其特征在于,所述发射模组和接收模组的安装位置使得所述检测图案相对所述基线具有一定角度。

6.根据权利要求1所述的深度检测系统,其特征在于,所述发射模组包括发光阵列和设置在发光阵列上方的衍射光学元件,所述发光阵列用于发射具有参考图案的检测光束,所述衍射光学元件用于将所述发光阵列发射的检测光束进行分束、复制并向空间中投影。

7.根据权利要求1所述的深度检测系统,其特征在于,所述发射模组向外部投影区域投影具有参考图案的检测光束,所述接收模组接收感光区域内的具有检测图案的检测光束,所述感光区域为所述投影区域内的一部分。

8.根据权利要求1所述的深度检测系统,其特征在于,所述参考图案包括多个相同的具有矩形边缘的子参考图案,所述子参考图案的检测长度大于所述子参考图案的宽度。

9.一种支架,其用于如权利要求1~8中任意一项所述的深度检测系统,其特征在于,所述支架包括具有长方体形状的主体,所述主体的一个表面具有向内凹陷的第一收纳槽和第二收纳槽,所述第一收纳槽用于收纳所述深度检测系统的发射模组,所述第二收纳槽用于收纳所述深度检测系统的接收模组,所述第一收纳槽和第二收纳槽具有矩形开口,所述第一收纳槽的矩形边缘所在直线和所述第二收纳槽的矩形边缘所在直线具有大于0度且小于或等于45度的角度。

10.一种电子装置,其用于外部对象的深度信息检测,其特征在于,所述电子装置包括权利要求1~8中任意一项所述的深度检测系统或权利要求9所述的支架。

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