[实用新型]一种研磨装置

说明书

本实用新型提供一种研磨装置，包括研磨机构、定位机构、真空泵、夹持机构、陶瓷盘、真空罩，陶瓷盘上开设有若干通孔，陶瓷盘上设有若干定位柱，真空罩上部开孔，孔内安装密封圈，密封圈中插入有连接管，连接管上设有调节阀。本实用新型可以提高研磨的磷化铟晶圆片的均匀性，同时可以加快研磨后从陶瓷盘上取下磷化铟晶圆片的速度。

技术领域

本实用新型涉及磷化铟晶圆片生产技术领域，具体涉及一种研磨装置。

背景技术

磷化铟具有电子迁移率高、耐辐射性能好、禁带宽度大等优点，在光子领域、射频领域两大应用领域拥有关键优势。在光通信中，磷化铟在许多功能中提供高性能，包括发射、探测、调制和混合等。磷化铟晶圆片生产过程中需要进行研磨，通常是在涂蜡的陶瓷盘上贴附磷化铟晶圆片，在通过加压的方式使其牢牢吸附，这会导致研磨加工后需要很长时间才能从陶瓷盘上取下磷化铟晶圆片。

实用新型内容

本实用新型的目的在于克服现有技术的不足，提供一种研磨装置和研磨方法。

为实现上述目的，本实用新型提供了如下技术方案来实现的：

一种研磨装置，包括研磨机构、定位机构、真空泵、夹持机构、陶瓷盘、真空罩，陶瓷盘上开设有若干通孔，陶瓷盘上设有若干定位柱，真空罩上部开孔，孔内安装密封圈，密封圈中插入有连接管，连接管上设有调节阀，连接管上部设置抽真空管接头，真空罩下部设有一圈密封环，真空泵上连接有抽真空管，抽真空管另一端可插入抽真空管接头中，夹持机构包括支撑台、夹持件，支撑台上开设有容纳陶瓷盘的缺口，夹持件设置在支撑台上用于固定陶瓷盘，定位机构包括定位环，定位环下部设有若干陶瓷块，

研磨机构包括机架和供液罐，机架上部中间位置开设有凹槽，机架内部设有驱动电机，驱动电机的输出端驱动连接有旋转轴，旋转轴上部连接有研磨盘，研磨盘表面上设有数道导流槽，凹槽底部为由外至内向上倾斜设置，机架上部位于凹槽左右两侧的位置均连接有支撑柱，支撑柱上部设有支撑块，支撑块远离支撑柱的一侧连接有弧形板，弧形板上设有两个调节孔，调节孔中安装有定位轮，机架上位于凹槽后侧的位置设有供液泵，供液泵和供液罐之间连接有抽液管，供液泵远离抽液管的一侧连接有两个供液管，供液管前端连接有调节管，调节管与供液管的连接处设置有流量阀，供液罐上部设置有搅拌电机，搅拌电机的输出端连接有搅拌轴，搅拌轴外周设有若干搅拌叶。

作为优选，通孔的直径为1mm，相邻通孔之间的距离为10mm。

作为优选，夹持件包括夹持片、调节螺杆，调节螺杆螺纹连接于支撑台上，夹持片外侧设有支撑座，调节螺杆与支撑座转动相连。

作为优选，调节管为万向竹节管。

作为优选，支撑块上开设有安装孔、调节槽、螺栓孔，安装孔位于支撑块靠外的一侧，调节槽与安装孔垂直，调节槽一端穿过安装孔，另一端与支撑块外侧面相连，螺栓孔与调节槽垂直且位于安装孔的外侧，支撑柱上端插入安装孔内，螺栓孔内拧入螺栓对支撑柱进行固定。

作为优选，凹槽底部和供液罐之间连接有回收管。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：在陶瓷盘上开孔，可直接通过真空罩来吸住陶瓷盘上的磷化铟晶圆片，减去了加压吸附的工序；研磨过程中，压力可通过陶瓷盘上的孔排出，避免了涂蜡不均导致磷化铟晶圆片在研磨时不同位置压力不同而影响均匀性；取料时只需打开真空罩上的调节阀即可从陶瓷盘上取下磷化铟晶圆片，而无需在陶瓷盘上慢慢推动磷化铟晶圆片来下料。

附图说明

图1为本实用新型中研磨机构的结构示意图；

图2为本实用新型中真空泵、夹持机构、陶瓷盘、真空罩组装时的结构示意图；

图3为本实用新型中夹持机构、陶瓷盘使用时的结构示意图；

图4为本实用新型定位机构、陶盘、真空罩使用时的结构示意图；