[实用新型]一种管道监测装置

说明书

本实用新型涉及管道检测技术领域，尤其涉及一种半导体制造设备的管道监测装置，连接流体传输管道，管道监测装置包括：一泄压阀，泄压阀的入口端通过一连接部件连接流体传输管道，泄压阀的出口端连接一储液桶，当流体传输管道内的压力高于一第一预设值时，泄压阀自动开启将流体传输管道内的流体排放到储液桶内储存。本实用新型技术方案的有益效果在于：提供一种管道监测装置，通过泄压阀调节流体传输管道内的压力，防止流体传输管道内的压力过高而发生爆管；管道监测装置的结构简单，安装方便，适用于多种机台的监测，具有较高适应性，降低机台附属设备成本。

技术领域

本实用新型涉及管道监测领域，尤其涉及一种半导体制造设备的管道监测装置。

背景技术

化学气相沉积(Chemical Vapor Deposition，简称CVD)工艺是指化学气体或蒸汽在基质表面反应合成涂层或纳米材料的方法，是半导体工业中应用最为广泛的用来沉积多种材料的技术。CVD机台在运行的过程中需要循环冷却水提供冷却和控温的功能，输送循环冷却水的循环水管(流体传输管道)随着机台老化和自身工况老化，漏水和爆管的状况时有发生。

由于循环水管主要分布在高频发生器、淋浴头、晶圆基座、电机控制器等重要元器件附近。这些重要的元器件一旦遇水，将会对电路部件产生不可逆伤害。因此，在现有技术中，在循环水管的防漏盘设置漏水传感器，漏水传感器一旦检测到循环水管发生漏水故障，机台会立即停止冷却水供应，以防止重要元器件遇水而损坏。但在机台停止冷却水供应后，大部分循环水管仍处在高温密闭环境，残留在循环水管内的水持续升温蒸发形成大量的水蒸汽，导致循环水管内压力持续上升，容易发生二次爆管，对机台造成二次伤害。

因此，现需一种新型的管道监测装置，既能实时监测流体传输管道的运行工况，还能及时调整流体传输管道内的压力，以防止流体传输管道爆管。

发明内容

针对现有技术中存在的上述问题，现提供一种管道监测装置。

具体技术方案如下：

本实用新型包括一种管道监测装置，连接一流体传输管道，所述管道监测装置包括：

一泄压阀，所述泄压阀的入口端通过一连接部件连接所述流体传输管道，所述泄压阀的出口端连接一储液桶，当所述流体传输管道内的压力高于一第一预设值时，所述泄压阀自动开启将所述流体传输管道内的水排放到所述储液桶内储存。

优选的，所述管道监测装置还包括一压力检测仪，通过所述连接部件连接所述流体传输管道，用于检测所述流体传输管道内的压力。

优选的，所述连接部件包括：

一第一连接管道，所述第一连接管道的两端分别连接所述流体传输管道；

一第二连接管道，所述第二连接管道的两端分别连接于一第三连接管道和所述第一连接管道；

所述第三连接管道的两端分别连接所述压力检测仪和所述泄压阀。

优选的，所述连接部件还包括一开关阀，设置于所述第二连接管道上。

优选的，所述管道监测装置还包括一冷凝器，设置于所述泄压阀的出口端与所述储液桶之间。

优选的，所述管道监测装置还包括一液位计，连接所述储液桶，用于实时检测所述储液桶的液位。

优选的，所述管道监测装置还包括设有一漏水传感器，设置于所述液位计上，所述漏水传感器用于实时检测所述液位计的液位。

优选的，所述第一连接管道的两端分别设有一接头，用于连接所述流体传输管道的接头。

优选的，所述接头为金属面密封接头。