[实用新型]激光可适深刻的激光扫描头有效

专利信息
申请号: 201921559453.2 申请日: 2019-09-18
公开(公告)号: CN211102171U 公开(公告)日: 2020-07-28
发明(设计)人: 朱丽 申请(专利权)人: 安徽铭谷激光智能装备科技有限公司
主分类号: B23K26/362 分类号: B23K26/362;B23K26/03
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 241000 *** 国省代码: 安徽;34
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摘要:
搜索关键词: 激光 深刻 扫描
【说明书】:

实用新型公开了一种激光可适深刻的激光扫描头,该激光扫描头包括:载体板,载体板的第一侧面上设置有激光测距头;第一侧面上位于激光测距头的两侧分别设置有倾角可调的第一激光雕刻头和第二激光雕刻头;其中,第一激光雕刻头和第二激光雕刻头的雕刻光束相交于雕刻点,激光测距头的测距光束与雕刻点相交。该激光扫描头能够实时对雕刻深度进行探测,从而能够通过所探测到的雕刻深度控制雕刻对焦位置。

技术领域

本实用新型涉及激光雕刻装置,具体地激光可适深刻的激光扫描头。

背景技术

传统的激光雕刻装置是在平面上进行加工的,具有固定的离焦量和固定的光斑大小的特征,离焦量的调焦和随着激光深雕深度的变化无法测量,而导致雕刻重印和雕刻深度不可测量的问题,并且也无法对不平整的加工面进行适应性雕刻。

实用新型内容

本实用新型的目的是提供一种激光可适深刻的激光扫描头,该激光扫描头能够实时对雕刻深度进行探测,从而能够通过所探测到的雕刻深度控制雕刻对焦位置。

为了实现上述目的,本实用新型提供了一种激光可适深刻的激光扫描头,该激光扫描头包括:载体板,所述载体板的第一侧面上设置有激光测距头;所述第一侧面上位于所述激光测距头的两侧分别设置有倾角可调的第一激光雕刻头和第二激光雕刻头;其中,所述第一激光雕刻头和第二激光雕刻头的雕刻光束相交于雕刻点,所述激光测距头的测距光束与所述雕刻点相交。

优选地,所述第一激光雕刻头和第二激光雕刻头以所述激光测距头的轴线为对称轴对称设置。

优选地,所述载体板的第二侧面上设置有第一步进电机和第二步进电机;所述第一步进电机和第二步进电机的轴体分别贯穿所述载体板并对应连接于所述第一激光雕刻头和第二激光雕刻头的背面。

优选地,所述第一步进电机和第二步进电机固接于所述载体板上,所述第一激光雕刻头和第二激光雕刻头分别固接于所述第一步进电机和第二步进电机的轴体上。

优选地,所述激光测距头上背向所述载体板的一侧设置有CCD工业相机。

优选地,所述载体板的上端固接有连接板,所述连接板上设置有多个安装孔。

根据上述技术方案,本实用新型中所述载体板的第一侧面上设置有激光测距头;所述第一侧面上位于所述激光测距头的两侧分别设置有倾角可调的第一激光雕刻头和第二激光雕刻头;其中,所述第一激光雕刻头和第二激光雕刻头的雕刻光束相交于雕刻点,所述激光测距头的测距光束与所述雕刻点相交。激光扫描头安装在激光雕刻机的活动臂上,通过控制调节第一激光雕刻头和第二激光雕刻头的倾角使得第一激光雕刻头和第二激光雕刻头的雕刻光束相交于雕刻点上,而激光测距头位置相对固定,始终照射在雕刻点位置,激光测距头将深度信息实时反馈给雕刻机系统,雕刻机系统通过反馈的深度信息调整第一激光雕刻头和第二激光雕刻头的倾角,进行可以获得不同的雕刻深度,当遇到不平整的雕刻面时,也可以通过激光测距头第一时间将雕刻面距离基准面的位置高度差反馈给雕刻机系统,从而可以对不平整的雕刻面进行雕刻,且同样能够有效的控制雕刻深度。

本实用新型的其他特征和优点将在随后的具体实施方式部分予以详细说明。

附图说明

附图是用来提供对本实用新型的进一步理解,并且构成说明书的一部分,与下面的具体实施方式一起用于解释本实用新型,但并不构成对本实用新型的限制。在附图中:

图1是激光扫描头的一种优选实施方式的整体结构示意图;

图2是激光扫描头的一种优选实施方式的侧面结构示意图。

附图标记说明

1 载体板 2 连接板

3 激光测距头 4 第一激光雕刻头

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