[实用新型]一种掩膜版及其蒸镀装置有效
| 申请号： | 201921560310.3 | 申请日： | 2019-09-18 |
| 公开（公告）号： | CN211057217U | 公开（公告）日： | 2020-07-21 |
| 发明（设计）人： | 史凯兴;薛文涛;刘宏俊 | 申请（专利权）人： | 昆山维信诺科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;C23C14/12;C23C14/24;H01L51/56 |
| 代理公司： | 北京三聚阳光知识产权代理有限公司 11250 | 代理人： | 李亚南 |
| 地址： | 215300 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 掩膜版 及其 装置 | ||
1.一种掩膜版，包括掩膜版本体，其特征在于，还包括，
若干蒸镀孔，设置于所述掩膜版本体上且贯穿所述掩膜版本体上下表面，用于蒸镀材料通过所述蒸镀孔进行蒸镀以形成蒸镀图案；
至少一层保护层，设置于所述掩膜版本体一侧上，所述保护层与所述蒸镀孔相对应区域设置开孔，所述开孔与所述蒸镀孔一一对应且所述开孔的尺寸不小于所述蒸镀孔的尺寸。
2.根据权利要求1所述的掩膜版，其特征在于，所述保护层的厚度为10-50nm。
3.根据权利要求1或2所述的掩膜版，其特征在于，所述保护层包括依次层叠设置于所述掩膜版本体一侧上的易与掩膜版本体分离的第一保护层和易与蒸镀材料分离的第二保护层。
4.根据权利要求3所述的掩膜版，其特征在于，所述第一保护层的厚度为10-30nm，所述第二保护层的厚度为10-30nm。
5.根据权利要求4所述的掩膜版，其特征在于，所述第一保护层为耐高温有机薄膜层、无机非纳米材料层或无机纳米材料层；
所述第二保护层为耐高温有机薄膜层、无机非纳米材料层或无机纳米材料层。
6.根据权利要求5所述的掩膜版，其特征在于，所述第一保护层为耐高温有机薄膜层，所述第二保护层为无机非纳米材料层或无机纳米材料层。
7.根据权利要求3所述的掩膜版，其特征在于，还包括易与蒸镀材料分离的第三保护层，所述第三保护层设置于所述第二保护层远离所述第一保护层的一侧上。
8.根据权利要求7所述的掩膜版，其特征在于，所述第三保护层的厚度为10-30nm；所述第三保护层为耐高温有机薄膜层、无机非纳米材料层或无机纳米材料层。
9.一种蒸镀装置，其特征在于，包括权利要求1-8任一项所述的掩膜版。
10.根据权利要求9所述的蒸镀装置，其特征在于，还包括支撑框架，所述支撑框架与所述掩膜版连接，用于支撑所述掩膜版。
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