[实用新型]一种适用于PECVD设备的防砸舟推舟机构有效
申请号: | 201921564146.3 | 申请日: | 2019-09-19 |
公开(公告)号: | CN210826352U | 公开(公告)日: | 2020-06-23 |
发明(设计)人: | 王玉明;刘景博;陈晖;张庶 | 申请(专利权)人: | 苏州拓升智能装备有限公司 |
主分类号: | C23C16/50 | 分类号: | C23C16/50 |
代理公司: | 北京远大卓悦知识产权代理事务所(普通合伙) 11369 | 代理人: | 韩飞 |
地址: | 215000 江苏省苏州市*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 适用于 pecvd 设备 防砸舟推舟 机构 | ||
本实用新型公开了一种适用于PECVD设备的防砸舟推舟机构,包括:桨杆装置;与所述桨杆装置滑动连接的滑动组件;与所述滑动组件滑动连接的顶升组件;以及固接于所述滑动组件底端的石墨舟检测组件;其中,所述桨杆装置通过T型悬臂与所述滑动组件相固接。本实用新型具有将桨杆装置与滑动组件及顶升组件通过T型悬臂连接为一个整体,不仅降低了结构空间,还使得桨杆的传送距离增大;能够对石墨舟在桨杆上放置的角度进行调节,保证石墨舟放置稳妥牢靠的有益效果。
技术领域
本实用新型涉及管式PECVD石墨舟推舟领域。更具体地说,本实用新型涉及一种适用于PECVD设备的防砸舟推舟机构。
背景技术
太阳能电池是一种具有光-电转换特性的半导体器件,它直接将太阳辐射能转换成直流电,是光伏収电的最基本单元,在太阳能收集转化过程中,太阳光照射到太阳能电池的硅片上,其中一部分太阳光会被反射,即使对将硅表面设计成绒面,虽然入射光会产生多次反射可以增加光的吸收率,但是,还是会有一部分的太阳光会被反射,据测算,光在硅表面的反射损失率高达35%左右,减反膜可以极高地提高电池片对太阳光的利用率,有助于提高光生电流密度,进而提高转换效率,同时薄膜中的氢对于电池片表面的钝化降低了发射结的表面复合速率,减小了暗电流,提升了开路电压,提高了光电转换效率;在烧穿工艺中的高温瞬时退火断裂了一些Si-H、N-H键,游离出来的H进一步加强了对电池的钝化。
薄膜制备工艺按照其成膜方法可分为两大类:物理气象沉积(PVD)和化学气象沉积(CVD)。等离子增强型化学气相沉积(PECVD)是化学气相沉积的一种,PECVD(PlasmaEnhanced Chemical Vapor Deposition)等离子增强化学气相沉积,等离子体是物质分子热运动加剧,相互间的碰撞会导致气体分子产生电离,物质就会变成自由运动并由相互作用的正离子、电子和中性粒子组成的混合物,其沉积温度低是其最突出的优点。PECVD的薄膜具有优良的电学性能、良好的衬底附着性以及极佳的台阶覆盖性。
随着PECVD设备的产能要求越来越高,由最初的单管240片发展到现在的432片,石墨舟的尺寸变的越来越大,PECVD设备也由当初的两管发展到现在的五管,单台设备中石墨舟使用频率也在增高,推舟机构在取放石墨舟的过程存在以下几个问题:首先,推舟组件结构庞大笨重,占用设备大量空间,导致设备体积增大,厂房单位面积产出低;其次,石墨舟的固定不稳,以往的推舟机构相对于水平面的角度固定后不可调节,各固定零件无法保证绝对的水平精度,并且推舟机构在使用一段时间后会产生一定的形变,石墨舟在推舟机构上放置时容易向较低一侧倾覆。
有鉴于此,实有必要开发一种适用于PECVD设备的防砸舟推舟机构,用以解决上述问题。
实用新型内容
针对现有技术中存在的不足之处,本实用新型的目的是提供一种适用于PECVD设备的防砸舟推舟机构,其将桨杆装置与滑动组件及顶升组件通过T型悬臂连接为一个整体,不仅降低了结构空间,还使得桨杆的传送距离增大;能够对石墨舟在桨杆上放置的角度进行调节,保证石墨舟放置稳妥牢靠。
为了实现根据本实用新型的这些目的和其它优点,提供了一种适用于PECVD设备的防砸舟推舟机构,包括:桨杆装置;
与所述桨杆装置滑动连接的滑动组件;
与所述滑动组件滑动连接的顶升组件;以及
固接于所述滑动组件底端的石墨舟检测组件;
其中,所述桨杆装置通过T型悬臂与所述滑动组件相固接。
优选的是,所述桨杆装置包括:桨杆组件;以及
固接于所述桨杆组件末端的承重杆夹紧组件;
其中,所述承重杆夹紧组件末端固接有高度调节组件,所述高度调节组件可对所述承重杆夹紧组件末端高度微调。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的