[实用新型]一种磁场/加速度集成传感器有效

专利信息
申请号: 201921572747.9 申请日: 2019-09-20
公开(公告)号: CN211263740U 公开(公告)日: 2020-08-14
发明(设计)人: 赵晓锋;王颖;于志鹏;温殿忠 申请(专利权)人: 黑龙江大学
主分类号: G01R33/07 分类号: G01R33/07;G01P15/12
代理公司: 北京康思博达知识产权代理事务所(普通合伙) 11426 代理人: 刘冬梅;范国锋
地址: 150080 黑龙*** 国省代码: 黑龙江;23
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摘要:
搜索关键词: 一种 磁场 加速度 集成 传感器
【权利要求书】:

1.一种磁场/加速度集成传感器,其特征在于,所述传感器包括设置在同一芯片上的磁场传感器和加速度传感器,以实现三维磁场和三轴加速度的同时测量;

所述磁场/加速度集成传感器以SOI片为衬底,所述SOI片包括器件层(1)、支撑硅(2)和第一二氧化硅层(3);

其中,所述器件层(1)的厚度为20~50μm,支撑硅(2)的厚度为420~550μm;

所述磁场传感器包括设置在器件层(1)上的四个呈立体结构的硅磁敏三极管和一个霍尔磁场传感器(H),

所述四个硅磁敏三极管两两结合,构成两个磁敏感单元,分别用于检测x轴方向和y轴方向的磁场;

所述霍尔磁场传感器(H)用于检测z轴方向的磁场;

在所述加速度传感器的中间位置处刻蚀有悬空结构,所述悬空结构包括位于中心位置的质量块和位于质量块两侧的四个双L型梁;

所述质量块具有两个,分别为第一质量块(m1)和第二质量块(m2);

所述每个双L型梁均包括两个单L型梁,四个双L型梁共有八个单L型梁,分别为第一单L型梁(L1),第二单L型梁(L2),第三单L型梁(L3),第四单L型梁(L4),第五单L型梁(L5),第六单L型梁(L6),第七单L型梁(L7)和第八单L型梁(L8)。

2.根据权利要求1所述的传感器,其特征在于,所述四个硅磁敏三极管分别为第一硅磁敏三极管(SMST1)、第二硅磁敏三极管(SMST2)、第三硅磁敏三极管(SMST3)和第四硅磁敏三极管(SMST4),

其中,所述第一硅磁敏三极管(SMST1)和第二硅磁敏三极管(SMST2)在磁场传感器芯片中心两侧沿磁场传感器的x 轴对称设置,

所述第三硅磁敏三极管(SMST3)和第四硅磁敏三极管(SMST4)在磁场传感器芯片中心两侧沿磁场传感器的y轴对称设置。

3.根据权利要求1所述的传感器,其特征在于,所述霍尔磁场传感器的磁敏感层为掺磷纳米硅薄膜nc-Si:H(n+),

所述磁敏感层的厚度为50nm~120nm。

4.根据权利要求1所述的传感器,其特征在于,在器件层(1)上、每个硅磁敏三极管周围制作有隔离槽(5),以防止硅磁敏三极管与其他器件间的相互影响;

所述隔离槽(5)为n+型掺杂。

5.根据权利要求1所述的传感器,其特征在于,在第一质量块(m1)和第二质量块(m2)之间还设置有第一中间梁(L9)和第二中间梁(L10),

所述第一中间梁(L9)和第二中间梁(L10)均与第一质量块(m1)和第二质量块(m2)垂直设置。

6.根据权利要求5所述的传感器,其特征在于,所述第一质量块(m1)和第二质量块(m2)的厚度均等于所述磁场/加速度集成传感器的最大厚度;

所述第一单L型梁(L1)至第八单L型梁(L8)、第一中间梁(L9)和第二中间梁(L10)的厚度均与器件层(1)的厚度相同。

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